Bomba seca GRM1201 1200 M³/H ISO160 KF25 para semiconductores fotovoltaicos
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Resaltar
Bomba de vacío seca para semiconductores fotovoltaicos
,Bomba de vacío en seco de 1200 m³/h
,Bomba de vacío seca ISO160 KF25
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Tipo de bombabomba de vacío en seco
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Velocidad de bombeo1200 m3/h
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Presión máxima≤0,15 Pa
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Tipo de motorMotor síncrono de imanes permanentes (PMSM)
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Potencia nominal1,9+1,9 kilovatios
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Voltaje380V trifásico
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Temperatura del agua de enfriamiento5-30 ° C
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Flujo de agua de refrigeración≥4 L/min
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Flujo de purga de N212-50 L/min
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Conexión de entradaISO160
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Conexión de salidaKF25
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Nivel de ruido≤63dB(A)
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Peso260 kg
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Dimensiones (L × W × H)865×344×751 milímetros
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Interfaz de controlE/S y RS485 (Protocolo Modbus)
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Sistema de selladoSello de labio + Sello de laberinto con purga de N2
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Compatibilidad de gasesGases de proceso inflamables, explosivos y condensables
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Lugar de origenPorcelana
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Nombre de la marcaGRM
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CertificaciónISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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Número de modeloGRM1201
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Cantidad de orden mínima1 juego
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PrecioUSD 13,000-20,000 / Set
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Detalles de empaquetadoCaja de madera contrachapada de exportación con barrera contra la humedad sellada al vacío e inserto
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Tiempo de entrega15-30 días laborables
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Condiciones de pagoT/T, carta de crédito, Western Union
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Capacidad de la fuente300 juegos por mes
Bomba seca GRM1201 1200 M³/H ISO160 KF25 para semiconductores fotovoltaicos
Puma de vacío seca GRM1201
La GRM1201 es una bomba de vacío seca de 1200 m3/h con bajo consumo de energía y alta velocidad de bombeo para aplicaciones de gran volumen de gases de escape.diseñado para PECVD exigente, MOCVD y procesos SIC-CVD.
Características clave
- El motor síncrono con imán permanente ofrece una eficiencia energética superior con un bajo consumo de energía líder en la industria.
- Estructura avanzada del rotor Una capacidad mejorada de extracción de polvo garantiza un funcionamiento confiable en entornos de proceso con gran cantidad de partículas.
- Tolerancia al polvo y al vapor de agua¢ Insensible al polvo y al vapor de agua que entra en el flujo de gas bombeado.
- Diseño compacto e integrado¢ Pequeña huella con una alta integración del sistema para una instalación fácil en entornos de fábricas llenos de gente.
- Protección integral- Funciones de protección integradas con una gran capacidad de adaptación a diferentes condiciones de proceso.
- Baja vibración y ruido¢ Funciona a ≤ 63 dB (A) a presión máxima para un lugar de trabajo más silencioso.
- Sistema de sellado avanzadoEl sello labial y el sello del laberinto combinados con la purga de nitrógeno impiden eficazmente el reflujo del aceite, manteniendo una alta limpieza del vacío en la cámara de proceso.
- Control y seguimiento a distanciaApoya la interfaz de E/S y la comunicación RS485 (protocolo Modbus) para una integración perfecta en los sistemas de automatización de fábrica.
- Compatibilidad con los gases peligrosos¢ Funcionamiento seguro con gases inflamables, explosivos y condensables.
Especificaciones técnicas
| Parámetro | Especificación |
|---|---|
| Velocidad de bombeo | 1200 m3/h |
| La mayor presión | ≤ 0,15 Pa |
| Potencia nominal | 1.9 + 1,9 kW |
| Válvula de tensión | 380 V de tres fases |
| Presión del agua de enfriamiento | 0.2-0.6 MPa |
| Flujo de agua de refrigeración | ≥ 4 L/min |
| Temperatura del agua de enfriamiento | 5-30 °C |
| Conexión de agua de refrigeración | G3/8 |
| Presión de depuración de N2 | 0.2-0.6 MPa |
| Flujo de depuración de N2 | Entre 12 y 50 l/min |
| Conexión de purga de N2 | G1/4 |
| Conexión de entrada | Se trata de la norma ISO 160. |
| Conexión de salida | KF25 |
| Nivel de ruido | Se aplican las siguientes medidas: |
| Medio ambiente de funcionamiento | 5 ~ 40 °C; ≤ 80% de HRC |
| Peso | 260 kg de peso |
| Dimensiones (L*W*H) | 865*344*751 mm |
Procesos de solicitud
Procesos limpios
Las condiciones de los productos de este tipo son las siguientes:
Procesos medianos
Proceso de PVD, Preliminación de PVD, RTA, tira / ceniza, grabado de óxido, grabado de silicio, fuente de implantes, grabado de metal
Procesos difíciles
El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero se calculará en función de las emisiones de gases de efecto invernadero.
Industria objetivo
- Las demás:El proceso de grabación, implantación iónica, CVD, PECVD, MOCVD y SIC-CVD se aplican en procesos limpios/medianos/duros.
- Las instalaciones fotovoltaicas:Hornos de crecimiento de cristales, procesos de fabricación de células.
- Batería de litio:Procesos de secado al vacío de las células, llenado de electrolitos y desgasificación.
- Display de panel plano y LED:Procesos de fabricación que requieren ambientes de vacío de alta limpieza.
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Nuestros productos se venden en todo el mundo, puede estar seguro de todo el proceso de nuestros productos.
