GRM201 to sucha pompa próżniowa o pojemności 200 m3/h o niskim zużyciu energii i dużej prędkości pompowania. Bezpiecznie obsługuje gazy procesów łatwopalne, wybuchowe i kondensacyjne, co czyni ją odpowiednią do PECVD,MOCVD, oraz procesów półprzewodnikowych SIC-CVD o wysokiej niezawodności i niskich kosztach utrzymania.
| Parametry | Specyfikacja |
|---|---|
| Prędkość pompowania | 200 m3/h |
| Największa presja | ≤ 0,5 Pa |
| Moc nominalna | 10,9 kW |
| napięcie | 380 V trójfazowe |
| Ciśnienie wody chłodzącej | 0.2-0.6 MPa |
| Przepływ wody chłodzącej | ≥ 3 l/min |
| Temperatura wody chłodzącej | 5-30 °C |
| Połączenie wody chłodzącej | G3/8 |
| N2 Ciśnienie oczyszczania | 0.2-0.6 MPa |
| Przepływ N2 | 12-50 l/min |
| Połączenie oczyszczania N2 | G1/4 |
| Połączenie wejściowe | ISO 63 |
| Połączenie z gniazdkiem | KF25 |
| Poziom hałasu | ≤ 63 dB (A) |
| Środowisko operacyjne | 5~40°C; ≤80% RH |
| Waga | 150 kg |
| Wymiary (L*W*H) | 741*344*466 mm |
Ładowanie, przeniesienie, metrologia, litografia
Proces PVD, pre-cleaning PVD, RTA, Strip/Ashing, Etch Oxide, Etch Silicon, Implant Source, Metal Etch
Wymagania w zakresie bezpieczeństwa i bezpieczeństwa