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GRH3001 3000 M³/H dry type vacuum pump with Permanent Magnet Synchronous Motor

GRH3001 pompa a vuoto a secco da 3000 M3/h con motore sincrono a magnete permanente

Prodotti - Pulsometri asciutti
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    Pompa a vuoto a secco a motore a magnete permanente

    ,

    Pompa a vuoto a secco da 3000 m3/h

    ,

    Pompa a vuoto secco fotovoltaico a semiconduttore

  • Tipo di pompa
    pompa a vuoto a secco
  • Velocità di pompaggio
    un ³ /h da 3000 m.
  • Pressione estrema
    ≤0,5 Pa
  • Tipo di motore
    Motore sincrono a magneti permanenti (PMSM)
  • Potenza nominale
    11+7,5 kW
  • Voltaggio
    Trifase 380V
  • Temperatura dell'acqua di raffreddamento
    5-30 ° C.
  • Flusso dell'acqua di raffreddamento
    ≥11 l/min
  • Flusso di spurgo N2
    43-123 l/min
  • Connessione di ingresso
    ISO160
  • Connessione di uscita
    KF40
  • Livello di rumore
    ≤ 70 DB ((A)
  • Peso
    770kg
  • Dimensioni (L × W × H)
    922×516×988 mm
  • Interfaccia di controllo
    I/O e RS485 (protocollo Modbus)
  • Sistema di tenuta
    Guarnizione a labbro + Guarnizione a labirinto con spurgo N2
  • Luogo di origine
    Cina
  • Marca
    GRH
  • Certificazione
    ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
  • Numero di modello
    GRH3001
  • Quantità di ordine minimo
    1 set
  • Prezzo
    USD 18,000-25,000 / Set
  • Imballaggi particolari
    Custodia in compensato per esportazione con barriera contro l'umidità sigillata sotto vuoto e in
  • Tempi di consegna
    15-30 giorni lavorativi
  • Termini di pagamento
    T/T, L/C, Western Union
  • Capacità di alimentazione
    500 set al mese

GRH3001 pompa a vuoto a secco da 3000 M3/h con motore sincrono a magnete permanente

  • GRH3001 3000 M³/H dry type vacuum pump with Permanent Magnet Synchronous Motor
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GRH3001 Pompa a vuoto a secco

La pompa GRH3001 è una pompa a vuoto a secco da 3000 m3/h progettata per la produzione di semiconduttori e fotovoltaici su larga scala.e basso consumo energetico per prestazioni affidabili ad alto volume.

Caratteristiche chiave

  • Motore sincrono a magnete permanente ️ Offre un'efficienza energetica superiore e un consumo di energia inferiore rispetto ai motori a induzione convenzionali.
  • Struttura avanzata del rotore
  • Tollerante alla polvere e al vapore acqueo- Insensibile alla polvere e al vapore acqueo trasportati nel flusso di gas pompato.
  • Progettazione compatta e integrata¢ Piccola presenza di prodotti con elevata integrazione del sistema per una facile installazione in ambienti di fabbrica affollati.
  • Protezione completa- funzioni di protezione integrate con una forte capacità di adattamento a diverse condizioni di processo.
  • Basse vibrazioni e rumore¢ Funziona a ≤ 70 dB (A) a pressione massima per un luogo di lavoro più silenzioso.
  • Sistema di sigillamento avanzatoIl sigillo dei labbra e il sigillo del labirinto combinati con la purga di azoto impediscono efficacemente il ritorno dell'olio, garantendo un'elevata pulizia del vuoto nella camera di processo.
  • Controllo e monitoraggio a distanzaSupporta l'interfaccia I/O e la comunicazione RS485 (protocollo Modbus) per l'integrazione senza soluzione di continuità nei sistemi di automazione di fabbrica.

Specifiche tecniche

Parametro Specificità
Velocità di pompaggio 3000 m3/h
La massima pressione ≤ 0,5 Pa
Potenza nominale 11+7,5 kW
Voltaggio 380V trifase
Pressione dell'acqua di raffreddamento 0.2-0.6 MPa
Flusso dell'acqua di raffreddamento ≥ 11 l/min
Temperatura dell'acqua di raffreddamento 5-30 °C
Connessione dell'acqua di raffreddamento G3/8
N2 Pressione di depurazione 0.2-0.6 MPa
Flusso di depurazione di N2 43-123 l/min
Connessione di depurazione N2 G1/4
Connessione di ingresso ISO 160
Connessione di presa KF40
Livello di rumore ≤ 70 dB (A)
Ambiente operativo 5 ~ 40 °C; ≤ 80% RH
Peso 770 kg
Dimensioni (L*W*H) 922*516*988 mm

Processi di applicazione

Processi puliti

Lavoratori, trasferitori, metrologi, litografi

Processi medi

Processo PVD, Prepulizia PVD, RTA, Strip/Ashing, Etch di ossido, Etch di silicio, Fonte di impianto, Etch di metallo

Processi difficili

Dati di riferimento per la determinazione del valore di riferimento

Industria bersaglio

  • di potenza superiore a 50 WEtching, impianto ionico, CVD e altre applicazioni di processo pulite, medie e dure.
  • Fotovoltaico:Forni per la crescita dei cristalli, processi di produzione delle cellule.
  • Batteria al litio:Processi di asciugatura a vuoto delle celle, riempimento di elettroliti e disgasamento.
  • Display a schermo piatto e LED:Processi di fabbricazione che richiedono ambienti sotto vuoto ad alta pulizia.
Etichette:

Pompa per vuoto a secco senza olio

Azionamento ad alta efficienza PMSM

Monitoraggio remoto RS485

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