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Pompa a vuoto a secco a tre fasi 380V
,Pompa a vuoto a secco da 1800 m3/h
,Pompa a vuoto a secco del processo dei semiconduttori
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Tipo di pompapompa a vuoto a secco
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Velocità di pompaggio1800 m³/h
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Pressione estrema≤0,5 Pa
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Tipo di motoreMotore sincrono a magneti permanenti (PMSM)
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Potenza nominale7,5+4,5KW
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Voltaggio380 V trifase
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Temperatura dell'acqua di raffreddamento10-30°C
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Flusso dell'acqua di raffreddamento6 l/min
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Flusso di spurgo N24-96 l/min
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Connessione di ingressoISO160
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Connessione di uscitaKF40
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Livello di rumore<70dB(A)
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Peso472 kg
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Dimensioni (L × W × H)935×420×795mm
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Interfaccia di controlloI/O e RS485 (protocollo Modbus)
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Sistema di tenutaGuarnizione a labbro + Guarnizione a labirinto con spurgo N2
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Luogo di origineCina
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MarcaGRH
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CertificazioneISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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Numero di modelloGRH1802
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Quantità di ordine minimo1 set
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PrezzoUSD 12,000-18,000 / Set
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Imballaggi particolariCustodia in compensato per esportazione con barriera contro l'umidità sigillata sotto vuoto e in
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Tempi di consegna15-30 giorni lavorativi
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Termini di pagamentoT/T, L/C, Western Union
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Capacità di alimentazione500 set al mese
Pompa a vuoto a secco a tre fasi 380V GRH1802 1800 M3/H
Pompa per vuoto a secco GRH1802
La GRH1802 è una pompa per vuoto a secco da 1800 m³/h progettata per processi esigenti nei settori dei semiconduttori e fotovoltaico. Con una camera di pompaggio oil-free, un ingombro ridotto e un basso consumo energetico, offre prestazioni affidabili con una robusta capacità di gestione della polvere.
Caratteristiche principali
- Motore sincrono a magneti permanenti — Offre un'efficienza energetica superiore e un minor consumo di energia rispetto ai motori a induzione convenzionali.
- Struttura avanzata del rotore — Capacità di estrazione della polvere migliorata, che rende la pompa altamente tollerante ai gas di processo carichi di particolato.
- Tollerante a polvere e vapore acqueo — Insensibile alla polvere e al vapore acqueo trascinati nel flusso di gas pompato.
- Design compatto e integrato — Ingombro ridotto con elevata integrazione di sistema per una facile installazione in ambienti di fabbrica affollati.
- Protezione completa — Funzioni di protezione integrate con forte capacità adattiva per condizioni di processo variabili.
- Bassa vibrazione e rumore — Funziona a <70 dB(A) a pressione limite per un ambiente di lavoro più silenzioso.
- Sistema di tenuta avanzato — La tenuta a labbro e la tenuta a labirinto combinate con il flussaggio di azoto prevengono efficacemente il riflusso di olio, garantendo un'elevata pulizia del vuoto nella camera di processo.
- Controllo e monitoraggio remoto — Supporta l'interfaccia I/O e la comunicazione RS485 (protocollo Modbus) per una perfetta integrazione nei sistemi di automazione di fabbrica.
Specifiche tecniche
| Parametro | Specifiche |
|---|---|
| Velocità di pompaggio | 1800 m³/h |
| Pressione limite | ≤0,5 Pa |
| Potenza nominale | 7,5+4,5 kW |
| Tensione | 380V trifase |
| Pressione acqua di raffreddamento | 0,3-0,6 MPa |
| Flusso acqua di raffreddamento | 6 L/min |
| Temperatura acqua di raffreddamento | 10-30 °C |
| Attacco acqua di raffreddamento | G3/8 |
| Pressione flussaggio N2 | 0,3-0,6 MPa |
| Flusso flussaggio N2 | 4-96 L/min |
| Attacco flussaggio N2 | G1/4 |
| Attacco ingresso | ISO160 |
| Attacco uscita | KF40 |
| Livello di rumore | <70 dB(A) |
| Ambiente operativo | 5~40°C; ≤80% RH |
| Peso | 472 kg |
| Dimensioni (L*P*A) | 935*420*795 mm |
Processi di applicazione
Processi puliti
Load-Lock, Trasferimento, Metrologia, Litografia
Processi medi
Processo PVD, Pre-pulizia PVD, RTA, Strip/Ashing, Etching ossido, Etching silicio, Sorgente di impianto, Etching metallo
Processi gravosi
HDP-CVD, RTP, SACVD, MOCVD, PECVD, LPCVD, ALD
Settori di destinazione
- Semiconduttori: Etching, impianto ionico, CVD e altre applicazioni di processo pulite, medie e gravose.
- Fotovoltaico: Forni di crescita cristalli, processi di produzione di celle.
- Batterie al litio: Processi di essiccazione sottovuoto delle celle, riempimento di elettroliti e degasaggio.
- Display a schermo piatto e LED: Processi di produzione che richiedono ambienti sottovuoto ad alta pulizia.
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