GRH3001 Pompe à vide à sec de 3000 M3/H avec moteur synchrone à aimant permanent
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Pompes à vide sèche à moteur à aimant permanent
,Pompes à vide à sec de 3000 m3/h
,Pompe à vide sèche pour semi-conducteurs PV
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Type de pompepompe à vide sèche
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Vitesse de pompage³ /h de 3000 m
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Pression ultime≤0,5 Pa
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Type de moteurMoteur synchrone à aimant permanent (PMSM)
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Puissance nominale11+7,5 kW
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Tension380V triphasé
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Température de l'eau de refroidissement5-30 ° C
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Débit d'eau de refroidissement≥11 L/min
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Débit de purge N243-123 L/min
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Connexion d'entréeISO160
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Connexion de sortieLe prix de vente
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Niveau de bruit≤ 70 dB (A)
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Poids770 kilogrammes
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Dimensions (L × W × H)922×516×988 millimètres
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Interface de contrôleE/S et RS485 (protocole Modbus)
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Système d'étanchéitéJoint à lèvres + joint labyrinthe avec purge N2
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Lieu d'origineChine
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Nom de marqueGRH
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CertificationISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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Numéro de modèleGRH3001
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Quantité de commande min1 ensemble
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PrixUSD 18,000-25,000 / Set
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Détails d'emballageBoîtier en contreplaqué de qualité export avec barrière contre l'humidité scellée sous vide et i
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Délai de livraison15-30 jours ouvrables
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Conditions de paiementT/T, LC, Western Union
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Capacité d'approvisionnement500 ensembles par mois
GRH3001 Pompe à vide à sec de 3000 M3/H avec moteur synchrone à aimant permanent
Pompe à vide sèche GRH3001
La GRH3001 est une pompe à vide sèche de 3000 m³/h conçue pour la fabrication de semi-conducteurs et photovoltaïques à moyenne et grande échelle. Elle combine une chambre de pompe sans huile, une conception compacte et une faible consommation d'énergie pour des performances fiables à haut volume.
Caractéristiques principales
- Moteur synchrone à aimants permanents — Offre une efficacité énergétique supérieure et une consommation d'énergie plus faible par rapport aux moteurs à induction conventionnels.
- Structure de rotor avancée — Capacité d'extraction de poussière améliorée, rendant la pompe très tolérante aux gaz de procédé chargés de particules.
- Tolérant à la poussière et à la vapeur d'eau — Insensible à la poussière et à la vapeur d'eau entraînées dans le flux de gaz pompé.
- Conception compacte et intégrée — Faible encombrement avec une intégration système élevée pour une installation facile dans des environnements de salle blanche encombrés.
- Protection complète — Fonctions de protection intégrées avec une forte capacité d'adaptation aux conditions de procédé variables.
- Faibles vibrations et bruit — Fonctionne à ≤70 dB(A) à pression ultime pour un environnement de travail plus silencieux.
- Système d'étanchéité avancé — Joint à lèvre et joint labyrinthe combinés à une purge à l'azote empêchent efficacement le reflux d'huile, garantissant une propreté de vide élevée dans la chambre de procédé.
- Contrôle et surveillance à distance — Prend en charge l'interface E/S et la communication RS485 (protocole Modbus) pour une intégration transparente dans les systèmes d'automatisation d'usine.
Spécifications techniques
| Paramètre | Spécification |
|---|---|
| Débit de pompage | 3000 m³/h |
| Pression ultime | ≤0,5 Pa |
| Puissance nominale | 11+7,5 kW |
| Tension | 380V triphasé |
| Pression d'eau de refroidissement | 0,2-0,6 MPa |
| Débit d'eau de refroidissement | ≥11 L/min |
| Température de l'eau de refroidissement | 5-30 °C |
| Raccord d'eau de refroidissement | G3/8 |
| Pression de purge N2 | 0,2-0,6 MPa |
| Débit de purge N2 | 43-123 L/min |
| Raccord de purge N2 | G1/4 |
| Raccord d'admission | ISO160 |
| Raccord de sortie | KF40 |
| Niveau sonore | ≤70 dB(A) |
| Environnement d'exploitation | 5~40°C ; ≤80% HR |
| Poids | 770 kg |
| Dimensions (L*l*H) | 922*516*988 mm |
Procédés d'application
Procédés propres
Sas, Transfert, Métrologie, Lithographie
Procédés moyens
Procédé PVD, Pré-nettoyage PVD, RTA, Stripping/Ashing, Gravure d'oxyde, Gravure de silicium, Source d'implantation, Gravure de métal
Procédés agressifs
HDP-CVD, RTP, SACVD, MOCVD, PECVD, LPCVD, ALD
Industries cibles
- Semi-conducteurs : Gravure, implantation ionique, CVD et autres applications de procédés propres, moyens et agressifs.
- Photovoltaïque : Fours de croissance cristalline, procédés de fabrication de cellules.
- Batterie au lithium : Procédés de séchage sous vide de cellules, de remplissage d'électrolyte et de dégazage.
- Écrans plats et LED : Procédés de fabrication nécessitant des environnements sous vide de haute propreté.
Produits connexes
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