GRH1202 1200 M³/H Pompe à vide sec pour semi-conducteurs photovoltaïques
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Pompe à vide sec pour semi-conducteurs
,Pompe à vide sec 1200 m³/h
,Pompe à vide sec photovoltaïque
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Type de pompepompe à vide sèche
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Vitesse de pompage1200 m3/h
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Pression ultime≤0,5 Pa
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Type de moteurMoteur synchrone à aimant permanent (PMSM)
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Puissance nominale7,5+1,9 kW
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Tension380V triphasé
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Température de l'eau de refroidissement5-30 ° C
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Débit d'eau de refroidissement≥4,7 L/min
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Débit de purge N24-96 L/min
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Connexion d'entréeISO100
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Connexion de sortieLe prix de vente
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Niveau de bruit≤ 70 dB (A)
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Poids220 kg
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Dimensions (L × W × H)821×420×791 millimètres
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Interface de contrôleE/S et RS485 (protocole Modbus)
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Système d'étanchéitéJoint à lèvres + joint labyrinthe avec purge N2
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Lieu d'origineChine
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Nom de marqueGRH
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CertificationISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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Numéro de modèleGRH1202
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Quantité de commande min1 ensemble
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PrixUSD 8,000-12,000 / Set
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Détails d'emballageBoîtier en contreplaqué de qualité export avec barrière contre l'humidité scellée sous vide et i
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Délai de livraison15-30 jours ouvrables
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Conditions de paiementT/T, LC, Western Union
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Capacité d'approvisionnement500 ensembles par mois
GRH1202 1200 M³/H Pompe à vide sec pour semi-conducteurs photovoltaïques
Pompe à vide sèche GRH1202
La GRH1202 est une pompe à vide sèche de 1200 m³/h conçue pour les processus de fabrication de semi-conducteurs, photovoltaïques et de batteries au lithium. Elle est dotée d'une chambre de pompe entièrement sans huile, d'un encombrement réduit et d'une faible consommation d'énergie, offrant des performances fiables avec un faible coût total de possession.
Caractéristiques principales
- Moteur synchrone à aimant permanent — Offre une efficacité énergétique supérieure et une consommation d'énergie plus faible par rapport aux moteurs à induction conventionnels.
- Structure de rotor avancée — Capacité d'extraction de poussière améliorée, rendant la pompe très tolérante aux gaz de processus chargés de particules.
- Tolérant à la poussière et à la vapeur d'eau — Insensible à la poussière et à la vapeur d'eau entraînées dans le flux de gaz pompé.
- Conception compacte et intégrée — Faible encombrement avec une intégration système élevée pour une installation facile dans des environnements de salle blanche encombrés.
- Protection complète — Fonctions de protection intégrées avec une forte capacité d'adaptation aux conditions de processus variables.
- Faibles vibrations et faible bruit — Fonctionne à ≤70 dB(A) à pression ultime pour un environnement de travail plus silencieux.
- Système d'étanchéité avancé — Joint à lèvre et joint labyrinthe combinés à une purge à l'azote empêchent efficacement le reflux d'huile, garantissant une propreté de vide élevée dans la chambre de processus.
- Contrôle et surveillance à distance — Prend en charge l'interface E/S et la communication RS485 (protocole Modbus) pour une intégration transparente dans les systèmes d'automatisation d'usine.
Spécifications techniques
| Paramètre | Spécification |
|---|---|
| Débit de pompage | 1200 m³/h |
| Pression ultime | ≤0,5 Pa |
| Puissance nominale | 7,5+1,9 kW |
| Tension | 380V Triphasé |
| Pression d'eau de refroidissement | 0,1-0,6 MPa |
| Débit d'eau de refroidissement | ≥4,7 L/min |
| Température de l'eau de refroidissement | 5-30 °C |
| Raccord d'eau de refroidissement | G3/8 |
| Pression de purge N2 | 0,2-0,6 MPa |
| Débit de purge N2 | 4-96 L/min |
| Raccord de purge N2 | G1/4 |
| Raccord d'admission | ISO100 |
| Raccord de sortie | KF40 |
| Niveau sonore | ≤70 dB(A) |
| Environnement d'exploitation | 5~40°C ; ≤80% HR |
| Poids | 220 kg |
| Dimensions (L*l*H) | 821*420*791 mm |
Processus d'application
Processus propres
Sas, Transfert, Métrologie, Lithographie
Processus moyens
Processus PVD, Pré-nettoyage PVD, RTA, Stripage/Dessin, Gravure d'oxyde, Gravure de silicium, Source d'implantation, Gravure de métal
Processus difficiles
HDP-CVD, RTP, SACVD, MOCVD, PECVD, LPCVD, ALD
Industries cibles
- Semi-conducteurs : Gravure, implantation ionique, CVD et autres applications de processus propres, moyennes et difficiles.
- Photovoltaïque : Fours de croissance cristalline, processus de fabrication de cellules.
- Batterie au lithium : Processus de séchage sous vide des cellules, de remplissage d'électrolyte et de dégazage.
- Écrans plats et LED : Processus de fabrication nécessitant des environnements de vide de haute propreté.
Produits connexes
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