-
Markeren
ISO100 Inlaatdroge vacuümpomp
,600 m3/h droge vacuümpomp
,KF25 Draadloze vacuümpomp
-
Pomptypedroge vacuümpomp
-
Pompsnelheid600 m ³ /h
-
Ultieme druk≤0,15 Pa
-
MotortypeSynchrone motor met permanente magneet (PMSM)
-
Nominaal vermogen1,9+1,9 kW
-
Spanning380V driefasig
-
Koelwatertemperatuur5-30 ° C
-
Koelwaterstroom≥4 l/min
-
N2 spoelstroom12-50 l/min
-
InlaataansluitingISO100
-
UitgangsaansluitingKF25
-
Geluidsniveau≤63 dB(A)
-
Gewicht260 kg
-
Afmetingen (L × W × H)865×344×751 mm
-
Controle-interfaceI/O en RS485 (Modbus-protocol)
-
AfdichtingssysteemLipafdichting + Labyrintafdichting met N2 Purge
-
GascompatibiliteitOntvlambare, explosieve en condenseerbare procesgassen
-
Plaats van herkomstChina
-
MerknaamGRM
-
CertificeringISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
-
ModelnummerGRM601
-
Min. bestelaantal1 set
-
PrijsUSD 8,000-13,000 / Set
-
Verpakking DetailsMultiplex koffer van exportkwaliteit met vacuümdichte vochtbarrière en schokbestendig schuiminzetstu
-
Levertijd15-30 werkdagen
-
BetalingsconditiesT/T, L/C, Western Union
-
Levering vermogen300 sets per maand
GRM601 600 M3/H droge vacuümpomp ISO100 KF25
GRM601 Droge Vacuümpomp
De GRM601 is een droge vacuümpomp van 600 m³/u die een laag energieverbruik en een hoge pompsnelheid biedt. Hij kan veilig omgaan met brandbare, explosieve en condenseerbare procesgassen, ontworpen voor PECVD, MOCVD en SIC-CVD halfgeleiderprocessen.
Belangrijkste Kenmerken
- Permanente Magneet Synchrone Motor — Levert superieure energie-efficiëntie met een toonaangevend laag energieverbruik.
- Geavanceerde Rotorstructuur — Verbeterde stofafzuigcapaciteit zorgt voor betrouwbare werking in stofrijke procesomgevingen.
- Stof- en Waterdampbestendig — Ongevoelig voor stof en waterdamp in de gepompte gasstroom.
- Compact en Geïntegreerd Ontwerp — Kleine voetafdruk met hoge systeemintegratie voor eenvoudige installatie in drukke fabrieksomgevingen.
- Uitgebreide Bescherming — Ingebouwde beschermingsfuncties met sterke adaptieve capaciteit voor wisselende procesomstandigheden.
- Lage Vibratie en Geluid — Werkt bij ≤63 dB(A) bij ultieme druk voor een stillere werkplek.
- Geavanceerd Afdichtingssysteem — Lipafdichting en labyrintafdichting gecombineerd met stikstofspoeling voorkomt effectief olierugstroming, waardoor de reinheid van het hoogvacuüm in de proceskamer behouden blijft.
- Afstandsbediening en Monitoring — Ondersteunt I/O-interface en RS485-communicatie (Modbus-protocol) voor naadloze integratie in fabriekautomatiseringssystemen.
- Compatibel met Gevaarlijke Gassen — Veilige werking met brandbare, explosieve en condenseerbare procesgassen.
Technische Specificaties
| Parameter | Specificatie |
|---|---|
| Pompsnelheid | 600 m³/u |
| Ultieme Druk | ≤0.15 Pa |
| Nominaal Vermogen | 1.9+1.9 kW |
| Spanning | 380V Driefasig |
| Koelwaterdruk | 0.2-0.6 MPa |
| Koelwaterdebiet | ≥4 L/min |
| Koelwatertemperatuur | 5-30 °C |
| Koelwateraansluiting | G3/8 |
| N2 Spoeldruk | 0.2-0.6 MPa |
| N2 Spoeldebiet | 12-50 L/min |
| N2 Spoelaansluiting | G1/4 |
| Inlaat Aansluiting | ISO100 |
| Uitlaat Aansluiting | KF25 |
| Geluidsniveau | ≤63 dB(A) |
| Bedrijfsomgeving | 5~40°C; ≤80% RV |
| Gewicht | 260 kg |
| Afmetingen (L*B*H) | 865*344*751 mm |
Toepassingsprocessen
Schone Processen
Load-Lock, Transfer, Metrologie, Lithografie
Middelmatige Processen
PVD Proces, PVD Pre-Clean, RTA, Strip/Ashing, Oxide Etch, Silicon Etch, Implant Source, Metal Etch
Zware Processen
HDP-CVD, RTP, SACVD, MOCVD, PECVD, LPCVD, ALD
Doelindustrieën
- Halfgeleider: Etching, ionenimplantatie, CVD, PECVD, MOCVD en SIC-CVD schone/middelmatige/zware procesapplicaties.
- Fotovoltaïsch: Kristalgroeifurnaces, celproductieprocessen.
- Lithiumbatterij: Cel vacuümdrogen, elektrolytvulling en ontgassingsprocessen.
- Flat Panel Display & LED: Productieprocessen die vacuümomgevingen met hoge reinheid vereisen.
gerelateerde producten
Onze producten worden over de hele wereld verkocht. U kunt gerust zijn op het hele proces van onze producten.
