-
Markeren
PMSM droge vacuümpomp
,200 m3/h droge vacuümpomp
,ISO63 KF25 droge vacuümpomp
-
Pomptypedroge vacuümpomp
-
Pompsnelheid200 m³/h
-
Ultieme druk≤0,5 Pa
-
MotortypeSynchrone motor met permanente magneet (PMSM)
-
Nominaal vermogen1,9 kW
-
Spanning380V driefasig
-
Koelwatertemperatuur5-30 ° C
-
Koelwaterstroom≥3 l/min
-
N2 spoelstroom12-50 l/min
-
InlaataansluitingISO63
-
UitgangsaansluitingKF25
-
Geluidsniveau≤63 dB(A)
-
Gewicht150 kg
-
Afmetingen (L × W × H)741×344×466 mm
-
Controle-interfaceI/O en RS485 (Modbus-protocol)
-
AfdichtingssysteemLipafdichting + Labyrintafdichting met N2 Purge
-
GascompatibiliteitOntvlambare, explosieve en condenseerbare procesgassen
-
Plaats van herkomstChina
-
MerknaamGRM
-
CertificeringISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
-
ModelnummerGRM201
-
Min. bestelaantal1 set
-
PrijsUSD 5,000-8,000 / Set
-
Verpakking DetailsMultiplex koffer van exportkwaliteit met vacuümdichte vochtbarrière en schokbestendig schuiminzetstu
-
Levertijd15-30 werkdagen
-
BetalingsconditiesT/T, L/C, Western Union
-
Levering vermogen300 sets per maand
GRM201 PMSM 200 M3/H drooglopende vacuümpomp ISO63 KF25
GRM201 Droge Vacuümpomp
De GRM201 is een droge vacuümpomp van 200 m³/u die een laag energieverbruik en een hoge pompsnelheid levert. Hij verwerkt veilig brandbare, explosieve en condenseerbare procesgassen, waardoor hij zeer betrouwbaar is en weinig onderhoud vereist voor PECVD, MOCVD en SIC-CVD halfgeleiderprocessen.
Belangrijkste Kenmerken
- Permanente Magneet Synchrone Motor — Levert superieure energie-efficiëntie met een toonaangevend laag energieverbruik.
- Geavanceerde Rotorstructuur — Verbeterde stofafzuigcapaciteit zorgt voor betrouwbare werking in stofrijke procesomgevingen.
- Stof- en Waterdampbestendig — Ongevoelig voor stof en waterdamp in de gepompte gasstroom.
- Compact en Geïntegreerd Ontwerp — Kleine voetafdruk met hoge systeemintegratie voor eenvoudige installatie in drukke fabrieksomgevingen.
- Uitgebreide Bescherming — Ingebouwde beschermingsfuncties met sterke aanpassingsmogelijkheden voor wisselende procesomstandigheden.
- Lage Vibratie en Geluid — Werkt bij ≤63 dB(A) bij ultieme druk voor een stillere werkplek.
- Geavanceerd Afdichtingssysteem — Lipafdichting en labyrintafdichting gecombineerd met stikstofspoeling voorkomt effectief oliedampterugstroming, waardoor de reinheid van het hoogvacuüm in de proceskamer behouden blijft.
- Afstandsbediening en Monitoring — Ondersteunt I/O-interface en RS485-communicatie (Modbus-protocol) voor naadloze integratie in fabriekautomatiseringssystemen.
- Compatibel met Gevaarlijke Gassen — Veilige werking met brandbare, explosieve en condenseerbare procesgassen.
Technische Specificaties
| Parameter | Specificatie |
|---|---|
| Pompsnelheid | 200 m³/u |
| Ultieme Druk | ≤0,5 Pa |
| Nominaal Vermogen | 1,9 kW |
| Spanning | 380V Driefasig |
| Koelwaterdruk | 0,2-0,6 MPa |
| Koelwaterdebiet | ≥3 L/min |
| Koelwatertemperatuur | 5-30 °C |
| Koelwateraansluiting | G3/8 |
| N2 Spoeldruk | 0,2-0,6 MPa |
| N2 Spoeldebiet | 12-50 L/min |
| N2 Spoelaansluiting | G1/4 |
| Inlaat Aansluiting | ISO63 |
| Uitlaat Aansluiting | KF25 |
| Geluidsniveau | ≤63 dB(A) |
| Bedrijfsomgeving | 5~40°C; ≤80% RV |
| Gewicht | 150 kg |
| Afmetingen (L*B*H) | 741*344*466 mm |
Toepassingsprocessen
Schone Processen
Load-Lock, Transfer, Metrologie, Lithografie
Middelmatige Processen
PVD Proces, PVD Pre-Clean, RTA, Strip/Ashing, Oxide Etch, Silicon Etch, Implant Source, Metal Etch
Zware Processen
HDP-CVD, RTP, SACVD, MOCVD, PECVD, LPCVD, ALD
Doelindustrieën
- Halfgeleider: Etching, ionenimplantatie, CVD, PECVD, MOCVD en SIC-CVD schone/middelmatige/zware procesapplicaties.
- Fotovoltaïsch: Kristalgroeifurnaces, celproductieprocessen.
- Lithiumbatterij: Vacuümdrogen van cellen, elektrolytvulling en ontgassingsprocessen.
- Plat Paneel Display & LED: Productieprocessen die vacuümomgevingen met hoge reinheid vereisen.
gerelateerde producten
Onze producten worden over de hele wereld verkocht. U kunt gerust zijn op het hele proces van onze producten.
