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ハイライト
半導体乾燥真空ポンプ
,1200 m3/hの乾燥真空ポンプ
,ソーラーパーム
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ポンプの種類乾燥式真空ポンプ
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排気速度1200m3/h
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到達圧力≤0.5Pa
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モーターの種類永久磁石同期モーター (PMSM)
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定格電力7.5+1.9kW
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電圧380V三相
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冷却水温5-30°C
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冷却水の流れ≥4.7 L/分
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N2パージフロー4～96L/分
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インレット接続ISO100
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コンセント接続KF40
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騒音レベル≤70 DB (A)
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重さ220kg
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寸法（l×w×h）821×420×791mm
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制御インターフェースI/O および RS485 (Modbus プロトコル)
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シーリングシステムリップシール＋ラビリンスシール（N2パージ付）
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起源の場所中国
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ブランド名GRH
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証明ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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モデル番号GRH1202
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最小注文数量1セット
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価格USD 8,000-12,000 / Set
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パッケージの詳細真空密閉防湿層と耐衝撃フォームインサートを備えた輸出グレードの合板ケース
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受渡し時間15～30営業日
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支払条件T/T、L/C、ウェスタンユニオン
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供給の能力毎月500セット
GRH1202 1200 M3/H 半導体太陽光発電のための乾燥真空ポンプ
GRH1202 乾燥式真空ポンプ
GRH1202は,半導体,光伏,リチウム電池製造プロセスのために設計された1200m3/hの乾燥真空ポンプです.それは完全に油のないポンプ室,コンパクトな足跡,低エネルギー消費信頼性の高い性能を低コストで提供します
主要 な 特徴
- 恒久磁気同期モーターは,従来のインダクションモーターと比較して,より優れたエネルギー効率と低電力消費を提供します.
- 先進的なローター構造 粉塵抽出能力が向上し,ポンプは粒子を積んだプロセスガスに非常に耐性がある.
- 塵や水蒸気に耐えるポンプされたガス流に吸収される塵や水蒸気には敏感ではありません.
- コンパクト で 統合 さ れ た 設計密集した工場環境での安装を容易にするため,システム統合が高く,小さな足跡があります.
- 総合 的 な 保護組み込み保護機能があり,さまざまなプロセス条件に適応する能力が強い.
- 低振動 と 騒音静かな作業場のために最大圧で ≤70 dB (A) で動作します.
- 先進的な密封システムリンパシールと迷路シールが窒素浄化と組み合わせることで,油の反流を効果的に防止し,プロセスの室内の高真空清掃を保証します.
- 遠隔制御と監視工場自動化システムへのシームレスな統合のために,I/OインターフェイスとRS485通信 (Modbusプロトコル) をサポートします.
テクニカル仕様
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| パンプ速度 | 1200m3/h |
| 究極 の 圧力 | ≤0.5 Pa |
| 定数電源 | 7.5+1.9 kW |
| 電圧 | 380V 三相 |
| 冷却水圧 | 0.1-0.6 MPa |
| 冷却水流量 | ≥4.7 L/min |
| 冷却水温 | 5〜30 °C |
| 冷却水接続 | G3/8 |
| N2 浄化圧 | 0.2-0.6 MPa |
| N2 浄化流量 | 4〜96L/分 |
| N2 浄化接続 | G1/4 |
| 入口接続 | ISO100 |
| ストローク接続 | KF40 |
| 騒音レベル | ≤70 dB (A) |
| 操作環境 | 5~40°C; RH ≤80% |
| 体重 | 220kg |
| サイズ (L*W*H) | 821*420*791mm |
申請プロセス
清潔 な プロセス
ロードロック,転送,メトロロジー,リトグラフィー
中途半端なプロセス
PVD プロセス,PVD プレクリーン,RTA,ストライプ/アッシュ,オキシドエッチ,シリコンエッチ,インプラントソース,金属エッチ
厳しい 裁判
HDP-CVD,RTP,SACVD,MOCVD,PECVD,LPCVD,ALD
対象産業
- 半導体:エッチング,イオンインプランテーション,CVD,その他のクリーン,中,厳しいプロセスアプリケーション.
- 光電池:結晶成長炉 細胞製造プロセス
- リチウム電池:細胞の真空乾燥,電解質の充填,脱ガスのプロセス
- フラットパネルディスプレイとLED:高潔度真空環境を必要とする製造プロセス
関連製品
当社の製品は世界中で販売されています。当社の製品の全プロセスにご安心ください。
