GRM601は、低消費電力と高排気速度を特長とする600 m³/hのドライ真空ポンプです。可燃性、爆発性、凝縮性のプロセスガスを安全に取り扱い、PECVD、MOCVD、SIC-CVD半導体プロセス向けに設計されています。
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| 排気速度 | 600 m³/h |
| 最終到達圧力 | ≤0.15 Pa |
| 定格出力 | 1.9+1.9 kW |
| 電圧 | 380V 三相 |
| 冷却水圧 | 0.2-0.6 MPa |
| 冷却水流量 | ≥4 L/min |
| 冷却水温 | 5-30 °C |
| 冷却水接続 | G3/8 |
| N2パージ圧力 | 0.2-0.6 MPa |
| N2パージ流量 | 12-50 L/min |
| N2パージ接続 | G1/4 |
| 吸気口接続 | ISO100 |
| 排気口接続 | KF25 |
| 騒音レベル | ≤63 dB(A) |
| 動作環境 | 5~40°C; ≤80% RH |
| 重量 | 260 kg |
| 寸法 (長さ*幅*高さ) | 865*344*751 mm |
ロードロック、トランスファー、計測、リソグラフィ
PVDプロセス、PVDプリクリーン、RTA、ストリップ/アッシング、酸化膜エッチング、シリコンエッチング、インプラントソース、メタルエッチング
HDP-CVD、RTP、SACVD、MOCVD、PECVD、LPCVD、ALD