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SUZHOU KACO VACUUM EQUIPMENT CO.,LTD. scorpiosyy@foxmail.com
GRM601 600 M³/H Dry Vacuum Pump ISO100 KF25

GRM601 600 M3/H 乾燥真空ポンプ ISO100 KF25

  • ハイライト

    ISO100 入口乾燥真空ポンプ

    ,

    600 m3/hの乾燥真空ポンプ

    ,

    KF25 出口乾燥真空ポンプ

  • ポンプの種類
    乾燥式真空ポンプ
  • 排気速度
    600のmの³ /h
  • 到達圧力
    ≤0.15Pa
  • モーターの種類
    永久磁石同期モーター (PMSM)
  • 定格電力
    1.9+1.9kW
  • 電圧
    380V三相
  • 冷却水温
    5-30°C
  • 冷却水の流れ
    ≧4L/分
  • N2パージフロー
    12~50L/分
  • インレット接続
    ISO100
  • コンセント接続
    KF25
  • 騒音レベル
    ≤63dB(A)
  • 重さ
    260 kg
  • 寸法(l×w×h)
    865×344×751mm
  • 制御インターフェース
    I/O および RS485 (Modbus プロトコル)
  • シーリングシステム
    リップシール+ラビリンスシール(N2パージ付)
  • ガス適合性
    可燃性、爆発性、凝縮性のプロセスガス
  • 起源の場所
    中国
  • ブランド名
    GRM
  • 証明
    ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
  • モデル番号
    GRM601
  • 最小注文数量
    1セット
  • 価格
    USD 8,000-13,000 / Set
  • パッケージの詳細
    真空密閉防湿層と耐衝撃フォームインサートを備えた輸出グレードの合板ケース
  • 受渡し時間
    15~30営業日
  • 支払条件
    T/T、L/C、ウェスタンユニオン
  • 供給の能力
    月300セット

GRM601 600 M3/H 乾燥真空ポンプ ISO100 KF25

GRM601 ドライ真空ポンプ

GRM601は、低消費電力と高排気速度を特長とする600 m³/hのドライ真空ポンプです。可燃性、爆発性、凝縮性のプロセスガスを安全に取り扱い、PECVD、MOCVD、SIC-CVD半導体プロセス向けに設計されています。

主な特長

  • 永久磁石同期モーター — 業界をリードする低消費電力で優れたエネルギー効率を実現します。
  • 先進的なローター構造 — 粉塵除去能力が向上し、粒子が多いプロセス環境での信頼性の高い動作を保証します。
  • 粉塵・水蒸気耐性 — ポンプガス流に混入する粉塵や水蒸気に影響されません。
  • コンパクトで統合された設計 — 省スペース設計と高いシステム統合性により、混雑したファブ環境への設置が容易です。
  • 包括的な保護機能 — 内蔵された保護機能と、変化するプロセス条件への強力な適応能力を備えています。
  • 低振動・低騒音 — 最終到達圧力で≤63 dB(A)の低騒音を実現し、より静かな作業環境を提供します。
  • 先進的なシールシステム — リップシールとラビリンスシールを窒素パージと組み合わせることで、オイルの逆流を効果的に防止し、プロセスチャンバー内の高真空清浄度を維持します。
  • リモート制御・監視 — I/OインターフェースとRS485通信(Modbusプロトコル)をサポートし、ファクトリーオートメーションシステムとのシームレスな統合を実現します。
  • 有害ガス対応 — 可燃性、爆発性、凝縮性のプロセスガスでの安全な動作を実現します。

技術仕様

パラメータ 仕様
排気速度 600 m³/h
最終到達圧力 ≤0.15 Pa
定格出力 1.9+1.9 kW
電圧 380V 三相
冷却水圧 0.2-0.6 MPa
冷却水流量 ≥4 L/min
冷却水温 5-30 °C
冷却水接続 G3/8
N2パージ圧力 0.2-0.6 MPa
N2パージ流量 12-50 L/min
N2パージ接続 G1/4
吸気口接続 ISO100
排気口接続 KF25
騒音レベル ≤63 dB(A)
動作環境 5~40°C; ≤80% RH
重量 260 kg
寸法 (長さ*幅*高さ) 865*344*751 mm

応用プロセス

クリーンプロセス

ロードロック、トランスファー、計測、リソグラフィ

ミディアムプロセス

PVDプロセス、PVDプリクリーン、RTA、ストリップ/アッシング、酸化膜エッチング、シリコンエッチング、インプラントソース、メタルエッチング

ハーシュプロセス

HDP-CVD、RTP、SACVD、MOCVD、PECVD、LPCVD、ALD

対象産業

  • 半導体: エッチング、イオン注入、CVD、PECVD、MOCVD、SIC-CVDのクリーン/ミディアム/ハーシュプロセス用途。
  • 太陽光発電: 結晶成長炉、セル製造プロセス。
  • リチウム電池: セル真空乾燥、電解液注入、脱ガスプロセス。
  • フラットパネルディスプレイ & LED: 高清浄度真空環境を必要とする製造プロセス。