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ハイライト
オイルフリードライ真空ポンプ
,6000 m³/h ドライ真空ポンプ
,三相ドライ真空ポンプ
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ポンプの種類乾燥式真空ポンプ
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排気速度6000 m3/h
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到達圧力≤0.5Pa
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モーターの種類永久磁石同期モーター (PMSM)
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定格電力11+7.5kW
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電圧380V 三相
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冷却水温5-30°C
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冷却水の流れ≥11 L/分
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N2パージフロー43～123L/分
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インレット接続ISO250
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コンセント接続KF40
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騒音レベル≤70 DB (A)
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重さ846kg
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寸法（l×w×h）1076×516×988mm
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制御インターフェースI/O および RS485 (Modbus プロトコル)
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シーリングシステムリップシール＋ラビリンスシール（N2パージ付）
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起源の場所中国
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ブランド名GRH
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証明ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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モデル番号GRH6001
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最小注文数量1セット
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価格USD 25,000-35,000 / Set
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パッケージの詳細真空密閉防湿層と耐衝撃フォームインサートを備えた輸出グレードの合板ケース
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受渡し時間15～30営業日
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支払条件T/T、L/C、ウェスタンユニオン
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供給の能力毎月500セット
GRH6001 6000 m³/h オイルフリードライポンプ 380V 三相
GRH6001 乾燥式真空ポンプ
GRH6001は,大規模な半導体および光伏の生産ラインのために設計された高容量6000m3/hの乾燥真空ポンプです.需要の高い高容量のアプリケーションのために低エネルギー消費.
主要 な 特徴
- 恒久磁気同期モーターは,従来のインダクションモーターと比較して,より優れたエネルギー効率と低電力消費を提供します.
- 先進的なローター構造 粉塵抽出能力が向上し,ポンプは粒子を積んだプロセスガスに非常に耐性がある.
- 塵や水蒸気に耐えるポンプされたガス流に吸収される塵や水蒸気には敏感ではありません.
- コンパクト で 統合 さ れ た 設計密集した工場環境での安装を容易にするため,システム統合が高く,小さな足跡があります.
- 総合 的 な 保護組み込み保護機能があり,さまざまなプロセス条件に適応する能力が強い.
- 低振動 と 騒音静かな作業場のために最大圧で ≤70 dB (A) で動作します.
- 先進的な密封システムリンパシールと迷路シールが窒素浄化と組み合わせることで,油の反流を効果的に防止し,プロセスの室内の高真空清掃を保証します.
- 遠隔制御と監視工場自動化システムへのシームレスな統合のために,I/OインターフェイスとRS485通信 (Modbusプロトコル) をサポートします.
テクニカル仕様
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| パンプ速度 | 6000 m3/h |
| 究極 の 圧力 | ≤0.5 Pa |
| 定数電源 | 11+7.5 kW |
| 電圧 | 380V 三相 |
| 冷却水圧 | 0.2-0.6 MPa |
| 冷却水流量 | ≥11L/分 |
| 冷却水温 | 5〜30 °C |
| 冷却水接続 | G3/8 |
| N2 浄化圧 | 0.2-0.6 MPa |
| N2 浄化流量 | 43〜123L/分 |
| N2 浄化接続 | G1/4 |
| 入口接続 | ISO250 |
| ストローク接続 | KF40 |
| 騒音レベル | ≤70 dB (A) |
| 操作環境 | 5~40°C; RH ≤80% |
| 体重 | 846kg |
| サイズ (L*W*H) | 1076*516*988mm |
申請プロセス
清潔 な プロセス
ロードロック,転送,メトロロジー,リトグラフィー
中途半端なプロセス
PVD プロセス,PVD プレクリーン,RTA,ストライプ/アッシュ,オキシドエッチ,シリコンエッチ,インプラントソース,金属エッチ
厳しい 裁判
HDP-CVD,RTP,SACVD,MOCVD,PECVD,LPCVD,ALD
対象産業
- 半導体:エッチング,イオンインプランテーション,CVD,その他のクリーン,中,厳しいプロセスアプリケーション.
- 光電池:結晶成長炉 細胞製造プロセス
- リチウム電池:細胞の真空乾燥,電解質の充填,脱ガスのプロセス
- フラットパネルディスプレイとLED:高潔度真空環境を必要とする製造プロセス
関連製品
当社の製品は世界中で販売されています。当社の製品の全プロセスにご安心ください。
