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SUZHOU KACO VACUUM EQUIPMENT CO.,LTD. scorpiosyy@foxmail.com
GRH3001 3000 M³/H dry type vacuum pump with Permanent Magnet Synchronous Motor

GRH3001 3000 M3/H 固磁気同期モーター付き乾式真空ポンプ

  • ハイライト

    永久磁石モーター 乾燥真空ポンプ

    ,

    3000 m3/hの乾燥真空ポンプ

    ,

    半導体・太陽電池用ドライ真空ポンプ

  • ポンプの種類
    乾燥式真空ポンプ
  • 排気速度
    3000のmの³ /h
  • 到達圧力
    ≤0.5Pa
  • モーターの種類
    永久磁石同期モーター (PMSM)
  • 定格電力
    11+7.5kW
  • 電圧
    380V三相
  • 冷却水温
    5-30°C
  • 冷却水の流れ
    ≥11 L/分
  • N2パージフロー
    43~123L/分
  • インレット接続
    ISO160
  • コンセント接続
    KF40
  • 騒音レベル
    ≤70 DB (A)
  • 重さ
    770kg
  • 寸法(l×w×h)
    922×516×988mm
  • 制御インターフェース
    I/O および RS485 (Modbus プロトコル)
  • シーリングシステム
    リップシール+ラビリンスシール(N2パージ付)
  • 起源の場所
    中国
  • ブランド名
    GRH
  • 証明
    ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
  • モデル番号
    GRH3001
  • 最小注文数量
    1セット
  • 価格
    USD 18,000-25,000 / Set
  • パッケージの詳細
    真空密閉防湿層と耐衝撃フォームインサートを備えた輸出グレードの合板ケース
  • 受渡し時間
    15~30営業日
  • 支払条件
    T/T、L/C、ウェスタンユニオン
  • 供給の能力
    毎月500セット

GRH3001 3000 M3/H 固磁気同期モーター付き乾式真空ポンプ

GRH3001 ドライ真空ポンプ

GRH3001は、中規模から大規模の半導体および太陽光発電製造向けに設計された、3000 m³/hのドライ真空ポンプです。オイルフリーポンプチャンバー、コンパクトな設計、低エネルギー消費を組み合わせることで、信頼性の高い大容量パフォーマンスを実現します。

主な特徴

  • 永久磁石同期モーター — 従来の誘導モーターと比較して、優れたエネルギー効率と低消費電力を実現します。
  • 先進的なローター構造 — 粉塵除去能力が向上し、粒子を含むプロセスガスに対するポンプの耐性が高まります。
  • 粉塵・水蒸気耐性 — ポンプされるガス流に混入する粉塵や水蒸気の影響を受けません。
  • コンパクトで統合された設計 — 省スペース設計でシステム統合性が高く、混雑したファブ環境への設置が容易です。
  • 包括的な保護機能 — 内蔵された保護機能と、様々なプロセス条件に対応する強力な適応能力を備えています。
  • 低振動・低騒音 — 真空到達時でも≤70 dB(A)の低騒音で、より静かな作業環境を提供します。
  • 先進的なシールシステム — リップシールとラビリンスシールを窒素パージと組み合わせることで、オイルの逆流を効果的に防止し、プロセスチャンバー内の高真空清浄度を保証します。
  • リモート制御・監視 — I/OインターフェースおよびRS485通信(Modbusプロトコル)をサポートし、ファクトリーオートメーションシステムとのシームレスな統合が可能です。

技術仕様

パラメータ 仕様
排気速度 3000 m³/h
到達圧力 ≤0.5 Pa
定格電力 11+7.5 kW
電圧 380V 三相
冷却水圧 0.2-0.6 MPa
冷却水流量 ≥11 L/min
冷却水温 5-30 °C
冷却水接続 G3/8
N2パージ圧 0.2-0.6 MPa
N2パージ流量 43-123 L/min
N2パージ接続 G1/4
吸気口接続 ISO160
排気口接続 KF40
騒音レベル ≤70 dB(A)
動作環境 5~40°C; ≤80% RH
重量 770 kg
寸法 (長さ*幅*高さ) 922*516*988 mm

適用プロセス

クリーンプロセス

ロードロック、トランスファー、計測、リソグラフィ

ミディアムプロセス

PVDプロセス、PVDプリクリーン、RTA、ストリップ/アッシング、酸化膜エッチ、シリコンエッチ、インプラントソース、メタルエッチ

ハーシュプロセス

HDP-CVD、RTP、SACVD、MOCVD、PECVD、LPCVD、ALD

ターゲット産業

  • 半導体: エッチング、イオン注入、CVD、およびその他のクリーン、ミディアム、ハーシュプロセスアプリケーション。
  • 太陽光発電: 結晶成長炉、セル製造プロセス。
  • リチウム電池: セル真空乾燥、電解液注入、脱ガスプロセス。
  • フラットパネルディスプレイ & LED: 高清浄度真空環境を必要とする製造プロセス。