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Trocken-Vakuumpumpe für Halbleiter PV
,1200 m³/H Trockenvakuumpumpe
,ISO160 KF25 Trocken-Vakuumpumpe
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PumpentypTrocken-Vakuumpumpe
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Pumpgeschwindigkeit1200 M3/h
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Ultimativer Druck≤0,15 Pa
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MotortypPermanentmagnet-Synchronmotor (PMSM)
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Nennleistung1,9+1,9 kW
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Stromspannung380V dreiphasig
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Kühlwassertemperatur5-30 ° C.
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Kühlwasserfluss≥4 l/min
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N2-Spülfluss12–50 l/min
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EinlassanschlussISO160
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AuslassanschlussKF25
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Geräuschpegel≤63 dB(A)
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Gewicht260 kg
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Abmessungen (L × W × H)865×344×751 mm
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SteuerschnittstelleI/O und RS485 (Modbus-Protokoll)
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DichtungssystemLippendichtung + Labyrinthdichtung mit N2-Spülung
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GaskompatibilitätBrennbare, explosive und kondensierbare Prozessgase
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HerkunftsortChina
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MarkennameGRM
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ZertifizierungISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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ModellnummerGRM1201
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Min Bestellmenge1 Satz
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PreisUSD 13,000-20,000 / Set
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Verpackung InformationenKoffer aus Sperrholz in Exportqualität mit vakuumversiegelter Feuchtigkeitsbarriere und stoßfester S
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Lieferzeit15-30 Werktage
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ZahlungsbedingungenT/T, L/C, Western Union
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Versorgungsmaterial-Fähigkeit300 Sätze pro Monat
GRM1201 1200 M³/H ISO160 KF25 Trockenpumpe für Halbleiter PV
GRM1201 Trockenvakuumpumpe
Die GRM1201 ist eine 1200 m3/h starke Trockenvakuumpumpe mit geringem Stromverbrauch und hoher Pumpgeschwindigkeit für Anwendungen mit großem Abgasvolumen.mit einer Breite von mehr als 20 mm,, MOCVD und SIC-CVD Verfahren.
Wesentliche Merkmale
- Dauermagnet-Synchronmotor Erbringt eine höhere Energieeffizienz mit branchenführendem geringen Stromverbrauch.
- Erweiterte Rotorstruktur
- Staub- und Wasserdampfverträglich- Unempfindlich gegenüber Staub und Wasserdampf, die in den gepumptem Gasstrom gelangen.
- Kompaktes und integriertes Design¢ Kleine Produktion mit hoher Systemintegration für eine einfache Installation in überfüllten Fabrikumgebungen.
- Umfassender Schutz- eingebaute Schutzfunktionen mit starker Anpassungsfähigkeit für unterschiedliche Prozessbedingungen.
- Niedrige Schwingungen und Lärm¢ bei ≤ 63 dB (A) bei Höchstdruck für einen leiseren Arbeitsplatz arbeitet.
- Fortgeschrittenes Versiegelungssystem¢ Lippendichtung und Labyrinthdichtung in Kombination mit Stickstoffreinigung verhindern effektiv den Rückfluss von Öl und gewährleisten eine hohe Vakuumreinheit in der Prozesskammer.
- Fernsteuerung und ÜberwachungUnterstützt I/O-Schnittstelle und RS485-Kommunikation (Modbus-Protokoll) für nahtlose Integration in Fabrikautomationssysteme.
- Kompatibel mit gefährlichen Gasen- Sicherer Betrieb mit brennbaren, explosiven und kondensierbaren Prozessgasen.
Technische Spezifikation
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Pumpgeschwindigkeit | 1200 m3/h |
| Der ultimative Druck | ≤ 0,15 Pa |
| Nennleistung | 10,9 + 1,9 kW |
| Spannung | 380 V Dreiphasen |
| Kühlwasserdruck | 0.2-0.6 MPa |
| Kühlwasserfluss | ≥ 4 L/min |
| Kühlwassertemperatur | 5 bis 30 °C |
| Kühlwasseranschluss | G3/8 |
| N2-Auslöschdruck | 0.2-0.6 MPa |
| N2-Ausblasfluss | 12 bis 50 L/min |
| N2-Auslöschverbindung | G1/4 |
| Einlassanschluss | ISO 160 |
| Steckdoseverbindung | KF25 |
| Geräuschpegel | ≤ 63 dB (A) |
| Betriebsumfeld | 5 ~ 40 °C; ≤ 80% WR |
| Gewicht | 260 kg |
| Abmessungen (L*W*H) | 865*344*751 mm |
Bewerbungsverfahren
Saubere Verfahren
Schließung, Übertragung, Metrologie, Lithographie
Mittlere Prozesse
PVD-Prozess, PVD-Vorreinigung, RTA, Streifen-/Ashaushöhlung, Oxid-Etsche, Silizium-Etsche, Implantatquelle, Metalleitsche
Schwierige Prozesse
Bei der Erfassung von Flächen mit einer hohen Temperatur von mehr als 20 °C ist die Anzahl der Flächen zu berücksichtigen.
Zielbranchen
- Halbleiter:Etching, Ionenimplantation, CVD, PECVD, MOCVD und SIC-CVD bei sauberen/mittleren/harten Prozessanwendungen.
- Photovoltaik:Kristallwachstumsöfen, Zellherstellungsprozesse.
- Lithiumbatterie:Zellvakuumtrocknung, Elektrolytfüllung und Entgasung.
- Flachbildschirm und LED:Herstellungsprozesse, bei denen eine hohe Reinheit in Vakuumumbedingungen erforderlich ist.
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