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SUZHOU KACO VACUUM EQUIPMENT CO.,LTD. scorpiosyy@foxmail.com
380V Three Phase Dry Vacuum Pump GRH1802 1800 M³/H

380 V Drei-Phasen-Trocknumschutzpumpe GRH1802 1800 M3/H

  • Hervorheben

    380V Dreiphasige Trockenvakuumpumpe

    ,

    1800 m3/h Trockenvakuumpumpe

    ,

    Halbleiterprozess Trockenvakuumpumpe

  • Pumpentyp
    Trocken-Vakuumpumpe
  • Pumpgeschwindigkeit
    1800 m³/h
  • Ultimativer Druck
    ≤0,5 Pa
  • Motortyp
    Permanentmagnet-Synchronmotor (PMSM)
  • Nennleistung
    7,5+4,5 kW
  • Stromspannung
    380 V dreiphasig
  • Kühlwassertemperatur
    10-30 °C
  • Kühlwasserfluss
    6 l/min
  • N2-Spülfluss
    4–96 l/min
  • Einlassanschluss
    ISO160
  • Auslassanschluss
    KF40
  • Geräuschpegel
    <70 dB(A)
  • Gewicht
    472 Kilo
  • Abmessungen (L × W × H)
    935×420×795 mm
  • Steuerschnittstelle
    I/O und RS485 (Modbus-Protokoll)
  • Dichtungssystem
    Lippendichtung + Labyrinthdichtung mit N2-Spülung
  • Herkunftsort
    China
  • Markenname
    GRH
  • Zertifizierung
    ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
  • Modellnummer
    GRH1802
  • Min Bestellmenge
    1 Satz
  • Preis
    USD 12,000-18,000 / Set
  • Verpackung Informationen
    Koffer aus Sperrholz in Exportqualität mit vakuumversiegelter Feuchtigkeitsbarriere und stoßfester S
  • Lieferzeit
    15-30 Werktage
  • Zahlungsbedingungen
    T/T, L/C, Western Union
  • Versorgungsmaterial-Fähigkeit
    500 Sätze pro Monat

380 V Drei-Phasen-Trocknumschutzpumpe GRH1802 1800 M3/H

GRH1802 Trockenvakuumpumpe

Die GRH1802 ist eine 1800 m3/h starke Trockenvakuumpumpe für anspruchsvolle Halbleiter- und Photovoltaikprozesse.Es bietet eine zuverlässige Leistung mit einer robusten Staubbehandlungsfähigkeit.

Wesentliche Merkmale

  • Dauermagnet-Synchronmotor Erbringt eine höhere Energieeffizienz und einen geringeren Stromverbrauch im Vergleich zu herkömmlichen Induktionsmotoren.
  • Erweiterte Rotorstruktur Verstärkte Staubentfernung, wodurch die Pumpe sehr tolerant gegenüber partikulierten Prozessgasen ist.
  • Staub- und Wasserdampfverträglich- Unempfindlich gegenüber Staub und Wasserdampf, die in den gepumptem Gasstrom gelangen.
  • Kompaktes und integriertes Design¢ Kleine Produktion mit hoher Systemintegration für eine einfache Installation in überfüllten Fabrikumgebungen.
  • Umfassender Schutz- eingebaute Schutzfunktionen mit starker Anpassungsfähigkeit für unterschiedliche Prozessbedingungen.
  • Niedrige Schwingungen und Lärm¢ Bei einem Höchstdruck von < 70 dB (A) für einen leiseren Arbeitsplatz.
  • Fortgeschrittenes Versiegelungssystem¢ Lippendichtung und Labyrinthdichtung in Kombination mit Stickstoffreinigung verhindern effektiv den Rückfluss von Öl und sorgen für eine hohe Vakuumreinheit in der Prozesskammer.
  • Fernsteuerung und ÜberwachungUnterstützt I/O-Schnittstelle und RS485-Kommunikation (Modbus-Protokoll) für nahtlose Integration in Fabrikautomationssysteme.

Technische Spezifikation

Parameter Spezifikation
Pumpgeschwindigkeit 1800 m3/h
Der ultimative Druck ≤ 0,5 Pa
Nennleistung 7.5 + 4,5 kW
Spannung 380 V Dreiphasen
Kühlwasserdruck 0.3-0.6 MPa
Kühlwasserfluss 6 L/min
Kühlwassertemperatur 10 bis 30 °C
Kühlwasseranschluss G3/8
N2-Auslöschdruck 0.3-0.6 MPa
N2-Ausblasfluss 4 bis 96 L/min
N2-Auslöschverbindung G1/4
Einlassanschluss ISO 160
Steckdoseverbindung KF40
Geräuschpegel < 70 dB (A)
Betriebsumfeld 5 ~ 40 °C; ≤ 80% WR
Gewicht 472 kg
Abmessungen (L*W*H) 935*420*795 mm

Bewerbungsverfahren

Saubere Verfahren

Schließung, Übertragung, Metrologie, Lithographie

Mittlere Prozesse

PVD-Prozess, PVD-Vorreinigung, RTA, Streifen-/Ashaushöhlung, Oxid-Etsche, Silizium-Etsche, Implantatquelle, Metalleitsche

Schwierige Prozesse

Bei der Erfassung von Flächen mit einer hohen Temperatur von mehr als 20 °C ist die Anzahl der Flächen zu berücksichtigen.

Zielbranchen

  • Halbleiter:Ätzen, Ionenimplantationen, CVD und andere saubere, mittlere und harte Prozessanwendungen.
  • Photovoltaik:Kristallwachstumsöfen, Zellherstellungsprozesse.
  • Lithiumbatterie:Zellvakuumtrocknung, Elektrolytfüllung und Entgasung.
  • Flachbildschirm und LED:Herstellungsprozesse, bei denen eine hohe Reinheit in Vakuumumbedingungen erforderlich ist.