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ISO100 Einlass Trockenvakuumpumpe
,600 m³/h Trockenvakuumpumpe
,KF25 Auslass Trockenvakuumpumpe
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PumpentypTrocken-Vakuumpumpe
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Pumpgeschwindigkeit600 m-³ /h
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Ultimativer Druck≤0,15 Pa
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MotortypPermanentmagnet-Synchronmotor (PMSM)
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Nennleistung1,9+1,9 kW
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Stromspannung380V dreiphasig
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Kühlwassertemperatur5-30 ° C.
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Kühlwasserfluss≥4 l/min
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N2-Spülfluss12–50 l/min
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EinlassanschlussISO100
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AuslassanschlussKF25
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Geräuschpegel≤63 dB(A)
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Gewicht260 kg
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Abmessungen (L × W × H)865×344×751 mm
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SteuerschnittstelleI/O und RS485 (Modbus-Protokoll)
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DichtungssystemLippendichtung + Labyrinthdichtung mit N2-Spülung
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GaskompatibilitätBrennbare, explosive und kondensierbare Prozessgase
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HerkunftsortChina
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MarkennameGRM
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ZertifizierungISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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ModellnummerGRM601
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Min Bestellmenge1 Satz
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PreisUSD 8,000-13,000 / Set
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Verpackung InformationenKoffer aus Sperrholz in Exportqualität mit vakuumversiegelter Feuchtigkeitsbarriere und stoßfester S
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Lieferzeit15-30 Werktage
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ZahlungsbedingungenT/T, L/C, Western Union
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Versorgungsmaterial-Fähigkeit300 Sätze pro Monat
GRM601 600 M³/H Trockenvakuumpumpe ISO100 KF25
GRM601 Trockene Vakuumpumpe
Die GRM601 ist eine trockene Vakuumpumpe mit 600 m³/h, die sich durch geringen Stromverbrauch und hohe Sauggeschwindigkeit auszeichnet. Sie verarbeitet sicher brennbare, explosive und kondensierbare Prozessgase und ist für PECVD, MOCVD und SIC-CVD Halbleiterprozesse konzipiert.
Hauptmerkmale
- Permanentmagnet-Synchronmotor — Bietet überlegene Energieeffizienz mit branchenführend geringem Stromverbrauch.
- Fortschrittliche Rotorstruktur — Verbesserte Staubabsaugung sorgt für zuverlässigen Betrieb in partikelreichen Prozessumgebungen.
- Staub- und Wasserdampfresistent — Unempfindlich gegenüber Staub und Wasserdampf im gepumpten Gasstrom.
- Kompaktes und integriertes Design — Geringer Platzbedarf mit hoher Systemintegration für einfache Installation in überfüllten Fertigungsumgebungen.
- Umfassender Schutz — Integrierte Schutzfunktionen mit starker Anpassungsfähigkeit an wechselnde Prozessbedingungen.
- Geringe Vibration und Geräuschentwicklung — Betrieb bei ≤63 dB(A) bei Enddruck für einen leiseren Arbeitsplatz.
- Fortschrittliches Dichtungssystem — Lippendichtung und Labyrinthdichtung in Kombination mit Stickstoffspülung verhindern effektiv das Zurückströmen von Öl und sorgen für hohe Vakuumreinheit in der Prozesskammer.
- Fernsteuerung und -überwachung — Unterstützt E/A-Schnittstelle und RS485-Kommunikation (Modbus-Protokoll) für nahtlose Integration in Fabrikautomationssysteme.
- Gefahrstoffkompatibel — Sicherer Betrieb mit brennbaren, explosiven und kondensierbaren Prozessgasen.
Technische Spezifikationen
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Sauggeschwindigkeit | 600 m³/h |
| Enddruck | ≤0,15 Pa |
| Nennleistung | 1,9+1,9 kW |
| Spannung | 380V Drehstrom |
| Kühlwasserdruck | 0,2-0,6 MPa |
| Kühlwasserdurchfluss | ≥4 L/min |
| Kühlwassertemperatur | 5-30 °C |
| Kühlwasseranschluss | G3/8 |
| N2-Spüldruck | 0,2-0,6 MPa |
| N2-Spülfluss | 12-50 L/min |
| N2-Spülanschluss | G1/4 |
| Einlassanschluss | ISO100 |
| Auslassanschluss | KF25 |
| Geräuschpegel | ≤63 dB(A) |
| Betriebsumgebung | 5~40°C; ≤80% RH |
| Gewicht | 260 kg |
| Abmessungen (L*B*H) | 865*344*751 mm |
Anwendungsprozesse
Saubere Prozesse
Load-Lock, Transfer, Metrologie, Lithographie
Mittlere Prozesse
PVD-Prozess, PVD-Vorreinigung, RTA, Strip/Ashing, Oxid-Ätzen, Silizium-Ätzen, Implantationsquelle, Metall-Ätzen
Raue Prozesse
HDP-CVD, RTP, SACVD, MOCVD, PECVD, LPCVD, ALD
Zielindustrien
- Halbleiter: Ätz-, Ionenimplantations-, CVD-, PECVD-, MOCVD- und SIC-CVD-Anwendungen für saubere/mittlere/raue Prozesse.
- Photovoltaik: Kristallwachstumöfen, Zellherstellungsprozesse.
- Lithiumbatterie: Vakuumtrocknung von Zellen, Elektrolytbefüllung und Entgasungsprozesse.
- Flachbildschirm & LED: Herstellungsprozesse, die Vakuumumgebungen mit hoher Reinheit erfordern.
Verwandte Produkte
Unsere Produkte werden auf der ganzen Welt verkauft. Sie können sich auf den gesamten Prozess unserer Produkte verlassen.
