GRH1202 1200 M³/H Trockenvakuumpumpe für Halbleiter und Photovoltaik
-
Hervorheben
Halbleiter-Trockenvakuumpumpe
,1200 m³/H Trockenvakuumpumpe
,Photovoltaik-Trockenvakuumpumpe
-
PumpentypTrocken-Vakuumpumpe
-
Pumpgeschwindigkeit1200 M3/h
-
Ultimativer Druck≤0,5 Pa
-
MotortypPermanentmagnet-Synchronmotor (PMSM)
-
Nennleistung7,5+1,9 kW
-
Stromspannung380V dreiphasig
-
Kühlwassertemperatur5-30 ° C.
-
Kühlwasserfluss≥4,7 l/min
-
N2-Spülfluss4–96 l/min
-
EinlassanschlussISO100
-
AuslassanschlussKF40
-
Geräuschpegel≤ 70 DB ((A)
-
Gewicht220 kg
-
Abmessungen (L × W × H)821×420×791 mm
-
SteuerschnittstelleI/O und RS485 (Modbus-Protokoll)
-
DichtungssystemLippendichtung + Labyrinthdichtung mit N2-Spülung
-
HerkunftsortChina
-
MarkennameGRH
-
ZertifizierungISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
-
ModellnummerGRH1202
-
Min Bestellmenge1 Satz
-
PreisUSD 8,000-12,000 / Set
-
Verpackung InformationenKoffer aus Sperrholz in Exportqualität mit vakuumversiegelter Feuchtigkeitsbarriere und stoßfester S
-
Lieferzeit15-30 Werktage
-
ZahlungsbedingungenT/T, L/C, Western Union
-
Versorgungsmaterial-Fähigkeit500 Sätze pro Monat
GRH1202 1200 M³/H Trockenvakuumpumpe für Halbleiter und Photovoltaik
GRH1202 Trockensaugpumpe
Die GRH1202 ist eine trockene Vakuumpumpe mit 1200 m³/h, die für die Halbleiter-, Photovoltaik- und Lithiumbatterieherstellung entwickelt wurde. Sie verfügt über eine vollständig ölfreie Pumpenkammer, eine kompakte Stellfläche und einen geringen Energieverbrauch, was eine zuverlässige Leistung mit niedrigen Gesamtbetriebskosten ermöglicht.
Hauptmerkmale
- Permanentmagnet-Synchronmotor — Bietet überlegene Energieeffizienz und geringeren Stromverbrauch im Vergleich zu herkömmlichen Induktionsmotoren.
- Fortschrittliche Rotorstruktur — Verbesserte Staubabsaugfähigkeit, wodurch die Pumpe sehr tolerant gegenüber partikelbeladenen Prozessgasen ist.
- Staub- und Wasserdampfbeständig — Unempfindlich gegenüber Staub und Wasserdampf, die im gepumpten Gasstrom mitgerissen werden.
- Kompaktes und integriertes Design — Kleine Stellfläche mit hoher Systemintegration für einfache Installation in überfüllten Fertigungsumgebungen.
- Umfassender Schutz — Integrierte Schutzfunktionen mit starker Anpassungsfähigkeit an wechselnde Prozessbedingungen.
- Geringe Vibration und Geräuschentwicklung — Betrieb bei ≤70 dB(A) bei Enddruck für einen leiseren Arbeitsplatz.
- Fortschrittliches Dichtungssystem — Lippendichtung und Labyrinthdichtung in Kombination mit Stickstoffspülung verhindern effektiv das Zurückströmen von Öl und gewährleisten eine hohe Vakuumreinheit in der Prozesskammer.
- Fernsteuerung und -überwachung — Unterstützt I/O-Schnittstelle und RS485-Kommunikation (Modbus-Protokoll) für nahtlose Integration in Fabrikautomationssysteme.
Technische Spezifikationen
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Saugvermögen | 1200 m³/h |
| Enddruck | ≤0,5 Pa |
| Nennleistung | 7,5+1,9 kW |
| Spannung | 380V Drehstrom |
| Kühlwasserdruck | 0,1-0,6 MPa |
| Kühlwasserdurchfluss | ≥4,7 L/min |
| Kühlwassertemperatur | 5-30 °C |
| Kühlwasseranschluss | G3/8 |
| N2-Spüldruck | 0,2-0,6 MPa |
| N2-Spülfluss | 4-96 L/min |
| N2-Spülanschluss | G1/4 |
| Einlassanschluss | ISO100 |
| Auslassanschluss | KF40 |
| Geräuschpegel | ≤70 dB(A) |
| Betriebsumgebung | 5~40°C; ≤80% RH |
| Gewicht | 220 kg |
| Abmessungen (L*B*H) | 821*420*791 mm |
Anwendungsprozesse
Saubere Prozesse
Load-Lock, Transfer, Metrologie, Lithographie
Mittlere Prozesse
PVD-Prozess, PVD-Vorreinigung, RTA, Strip/Ashing, Oxid-Ätzen, Silizium-Ätzen, Implantatquelle, Metall-Ätzen
Raue Prozesse
HDP-CVD, RTP, SACVD, MOCVD, PECVD, LPCVD, ALD
Zielindustrien
- Halbleiter: Ätzen, Ionenimplantation, CVD und andere saubere, mittlere und raue Prozessanwendungen.
- Photovoltaik: Kristallwachstumöfen, Zellherstellungsprozesse.
- Lithiumbatterie: Zellvakuumtrocknung, Elektrolytbefüllung und Entgasungsprozesse.
- Flachbildschirm & LED: Herstellungsprozesse, die Vakuumumgebungen mit hoher Reinheit erfordern.
Verwandte Produkte
Unsere Produkte werden auf der ganzen Welt verkauft. Sie können sich auf den gesamten Prozess unserer Produkte verlassen.
