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Destacar
Bomba de vácuo a seco de entrada ISO100
,Bomba de vácuo a seco de 600 m³/h
,Bomba de vácuo a seco de saída KF25
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Tipo de bombabomba de vácuo seco
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Velocidade de bombeamento³ /h de 600 m
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Pressão Final≤0,15Pa
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Tipo de motorMotor Síncrono de Ímã Permanente (PMSM)
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Potência nominal1,9+1,9kW
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Tensão380V trifásico
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Temperatura de resfriamento da água5-30 ° C.
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Fluxo de água de resfriamento≥4 L/min
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Fluxo de purga de N212-50 L/min
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Conexão de entradaISO100
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Conexão de saídaKF25
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Nível de ruído≤63dB(A)
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Peso260 kg
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Dimensões (L × W × H)865×344×751 milímetros
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Interface de controleE/S e RS485 (protocolo Modbus)
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Sistema de vedaçãoVedação labial + vedação labirinto com purga N2
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Compatibilidade de GásGases de processo inflamáveis, explosivos e condensáveis
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Lugar de origemChina
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MarcaGRM
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CertificaçãoISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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Número do modeloGRM601
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Quantidade de ordem mínima1 conjunto
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PreçoUSD 8,000-13,000 / Set
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Detalhes da embalagemCaixa de madeira compensada de exportação com barreira contra umidade selada a vácuo e inserção de e
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Tempo de entrega15-30 dias úteis
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Termos de pagamentoT/T, L/C, Western Union
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Habilidade da fonte300 conjuntos por mês
Bomba de vácuo a seco GRM601 600 M³/H ISO100 KF25
GRM601 Bomba de vácuo a seco
A GRM601 é uma bomba de vácuo a seco de 600 m3/h que oferece baixo consumo de energia e alta velocidade de bombeamento.e processos de semicondutores SIC-CVD.
Características fundamentais
- Motor síncrono com ímã permanente
- Estrutura avançada do rotor
- Tolerante ao pó e ao vapor de água- Insensibilidade à poeira e ao vapor de água absorvidos no fluxo de gás bombeado.
- Design compacto e integrado¢ Pequena presença com elevada integração do sistema para uma fácil instalação em ambientes de fabrico lotados.
- Proteção integral- Funções de protecção integradas com uma forte capacidade de adaptação a diferentes condições de processo.
- Baixa vibração e ruídoO sistema opera a uma pressão máxima de ≤ 63 dB (A) para um local de trabalho mais silencioso.
- Sistema avançado de vedaçãoO selo dos lábios e o selo do labirinto combinados com a purga de nitrogénio impedem efetivamente o fluxo de óleo para trás, mantendo uma elevada limpeza do vácuo na câmara de processo.
- Controle e monitorização a distânciaSuporta interface de E/S e comunicação RS485 (protocolo Modbus) para integração perfeita em sistemas de automação de fábrica.
- Compatibilidade com gases perigosos¢ Operação segura com gases inflamáveis, explosivos e condensáveis.
Especificações técnicas
| Parâmetro | Especificações |
|---|---|
| Velocidade de bombeamento | 600 m3/h |
| Pressão extrema | ≤ 0,15 Pa |
| Potência nominal | 10,9 + 1,9 kW |
| Voltagem | 380 V trifásico |
| Pressão da água de arrefecimento | 0.2-0.6 MPa |
| Fluxo de água de arrefecimento | ≥ 4 L/min |
| Temperatura da água de arrefecimento | 5-30 °C |
| Conexão de água de arrefecimento | G3/8 |
| N2 Pressão de depuração | 0.2-0.6 MPa |
| Fluxo de depuração de N2 | 12 a 50 l/min |
| Conexão de depuração de N2 | G1/4 |
| Conexão de entrada | ISO100 |
| Conexão de tomada | KF25 |
| Nível de ruído | ≤ 63 dB (A) |
| Ambiente de funcionamento | 5~40°C; ≤ 80% HRC |
| Peso | 260 kg |
| Dimensões (L*W*H) | 865*344*751 mm |
Processos de aplicação
Processos limpos
Load-lock, transferência, metrologia, litografia
Processos médios
Processo PVD, pré-limpeza PVD, RTA, tira/cinção, gravação de óxido, gravação de silício, fonte de implante, gravação de metal
Processos difíceis
O número de unidades de controlo deve ser igual ou superior a:
Indústrias-alvo
- Semicondutores:Gravação, implantação de íons, CVD, PECVD, MOCVD e SIC-CVD aplicações de processo limpo / médio / duro.
- Energia fotovoltaica:Fornos de crescimento de cristais, processos de fabricação de células.
- Bateria de lítio:Processo de secagem a vácuo de células, enchimento de eletrólitos e desgaseamento.
- Display de painel plano e LED:Processos de fabrico que exijam ambientes de vácuo de elevada limpeza.
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