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Bomba de vácuo seca trifásica de 380V
,Bomba de vácuo seca de 1800 m³/h
,Bomba de vácuo seca para processo de semicondutores
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Tipo de bombabomba de vácuo seco
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Velocidade de bombeamento1800 m³/h
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Pressão Final≤0,5 Pa
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Tipo de motorMotor Síncrono de Ímã Permanente (PMSM)
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Potência nominal7,5+4,5 kW
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Tensão380V Trifásico
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Temperatura de resfriamento da água10-30ºC
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Fluxo de água de resfriamento6 L/min
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Fluxo de purga de N24-96 L/min
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Conexão de entradaISO160
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Conexão de saídaKF40
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Nível de ruído<70dB(A)
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Peso472kg
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Dimensões (L × W × H)935×420×795 milímetros
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Interface de controleE/S e RS485 (protocolo Modbus)
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Sistema de vedaçãoVedação labial + vedação labirinto com purga N2
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Lugar de origemChina
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MarcaGRH
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CertificaçãoISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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Número do modeloGRH1802
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Quantidade de ordem mínima1 conjunto
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PreçoUSD 12,000-18,000 / Set
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Detalhes da embalagemCaixa de madeira compensada de exportação com barreira contra umidade selada a vácuo e inserção de e
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Tempo de entrega15-30 dias úteis
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Termos de pagamentoT/T, L/C, Western Union
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Habilidade da fonte500 conjuntos por mês
Bomba de vácuo seca trifásica de 380V GRH1802 1800 M³/H
Bomba de Vácuo Seca GRH1802
A GRH1802 é uma bomba de vácuo seca de 1800 m³/h projetada para processos exigentes em semicondutores e fotovoltaicos. Com uma câmara de bomba isenta de óleo, pegada compacta e baixo consumo de energia, ela oferece desempenho confiável com robusta capacidade de manuseio de poeira.
Principais Características
- Motor Síncrono de Ímã Permanente — Oferece eficiência energética superior e menor consumo de energia em comparação com motores de indução convencionais.
- Estrutura Avançada do Rotor — Capacidade aprimorada de extração de poeira, tornando a bomba altamente tolerante a gases de processo carregados de partículas.
- Tolerante a Poeira e Vapor d'Água — Insensível à poeira e ao vapor d'água arrastados no fluxo de gás bombeado.
- Design Compacto e Integrado — Pequena pegada com alta integração de sistema para fácil instalação em ambientes de fábrica lotados.
- Proteção Abrangente — Funções de proteção integradas com forte capacidade adaptativa para condições de processo variáveis.
- Baixa Vibração e Ruído — Opera a <70 dB(A) na pressão final para um local de trabalho mais silencioso.
- Sistema de Vedação Avançado — Selo de lábio e selo labiríntico combinados com purga de nitrogênio evitam efetivamente o retrofluxo de óleo, garantindo alta limpeza de vácuo na câmara de processo.
- Controle e Monitoramento Remoto — Suporta interface de E/S e comunicação RS485 (protocolo Modbus) para integração perfeita em sistemas de automação de fábrica.
Especificações Técnicas
| Parâmetro | Especificação |
|---|---|
| Velocidade de Bombeamento | 1800 m³/h |
| Pressão Final | ≤0.5 Pa |
| Potência Nominal | 7.5+4.5 kW |
| Tensão | 380V Trifásico |
| Pressão da Água de Resfriamento | 0.3-0.6 MPa |
| Fluxo da Água de Resfriamento | 6 L/min |
| Temperatura da Água de Resfriamento | 10-30 °C |
| Conexão da Água de Resfriamento | G3/8 |
| Pressão da Purga de N2 | 0.3-0.6 MPa |
| Fluxo da Purga de N2 | 4-96 L/min |
| Conexão da Purga de N2 | G1/4 |
| Conexão de Entrada | ISO160 |
| Conexão de Saída | KF40 |
| Nível de Ruído | <70 dB(A) |
| Ambiente de Operação | 5~40°C; ≤80% UR |
| Peso | 472 kg |
| Dimensões (C*L*A) | 935*420*795 mm |
Processos de Aplicação
Processos Limpos
Load-Lock, Transferência, Metrologia, Litografia
Processos Médios
Processo PVD, Pré-Limpeza PVD, RTA, Strip/Ashing, Ataque de Óxido, Ataque de Silício, Fonte de Implante, Ataque de Metal
Processos Severos
HDP-CVD, RTP, SACVD, MOCVD, PECVD, LPCVD, ALD
Indústrias Alvo
- Semicondutores: Ataque, implantação iônica, CVD e outras aplicações de processos limpos, médios e severos.
- Fotovoltaicos: Fornos de crescimento de cristal, processos de fabricação de células.
- Bateria de Lítio: Processos de secagem a vácuo de células, enchimento de eletrólitos e desgaseificação.
- Display de Tela Plana e LED: Processos de fabricação que exigem ambientes de vácuo de alta limpeza.
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