Bomba de vácuo a seco GRH1202 1200 M³/H para semicondutores fotovoltaicos
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Bomba de vácuo a seco para semicondutores
,Bomba de vácuo a seco de 1200 m³/h
,Bomba de vácuo a seco fotovoltaica
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Tipo de bombabomba de vácuo seco
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Velocidade de bombeamento1200 m3/h
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Pressão Final≤0,5 Pa
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Tipo de motorMotor Síncrono de Ímã Permanente (PMSM)
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Potência nominal7,5+1,9 kW
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Tensão380V trifásico
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Temperatura de resfriamento da água5-30 ° C.
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Fluxo de água de resfriamento≥4,7 L/min
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Fluxo de purga de N24-96 L/min
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Conexão de entradaISO100
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Conexão de saídaKF40
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Nível de ruído≤ 70 dB (A)
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Peso220kg
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Dimensões (L × W × H)821×420×791 milímetros
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Interface de controleE/S e RS485 (protocolo Modbus)
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Sistema de vedaçãoVedação labial + vedação labirinto com purga N2
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Lugar de origemChina
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MarcaGRH
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CertificaçãoISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018
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Número do modeloGRH1202
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Quantidade de ordem mínima1 conjunto
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PreçoUSD 8,000-12,000 / Set
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Detalhes da embalagemCaixa de madeira compensada de exportação com barreira contra umidade selada a vácuo e inserção de e
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Tempo de entrega15-30 dias úteis
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Termos de pagamentoT/T, L/C, Western Union
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Habilidade da fonte500 conjuntos por mês
Bomba de vácuo a seco GRH1202 1200 M³/H para semicondutores fotovoltaicos
GRH1202 Bomba de vácuo seco
A GRH1202 é uma bomba de vácuo seco de 1200 m3/h projetada para processos de fabricação de semicondutores, fotovoltaicos e baterias de lítio.e baixo consumo de energia, proporcionando um desempenho fiável com baixo custo total de propriedade.
Características fundamentais
- Motor síncrono com ímã permanente
- Estrutura avançada do rotor
- Tolerante ao pó e ao vapor de água- Insensibilidade à poeira e ao vapor de água absorvidos no fluxo de gás bombeado.
- Design compacto e integrado¢ Pequena presença com elevada integração do sistema para uma fácil instalação em ambientes de fabrico lotados.
- Proteção integral- Funções de protecção integradas com uma forte capacidade de adaptação a diferentes condições de processo.
- Baixa vibração e ruídoO sistema opera a uma pressão máxima de ≤ 70 dB (A) para um local de trabalho mais silencioso.
- Sistema avançado de vedaçãoO selo dos lábios e o selo do labirinto combinados com a purga de nitrogénio impedem efetivamente o fluxo de óleo para trás, garantindo uma elevada limpeza do vácuo na câmara de processo.
- Controle e monitorização a distânciaSuporta interface de E/S e comunicação RS485 (protocolo Modbus) para integração perfeita em sistemas de automação de fábrica.
Especificações técnicas
| Parâmetro | Especificações |
|---|---|
| Velocidade de bombeamento | 1200 m3/h |
| Pressão extrema | ≤ 0,5 Pa |
| Potência nominal | 7.5+1.9 kW |
| Voltagem | 380 V trifásico |
| Pressão da água de arrefecimento | 0.1-0.6 MPa |
| Fluxo de água de arrefecimento | ≥ 4,7 L/min |
| Temperatura da água de arrefecimento | 5-30 °C |
| Conexão de água de arrefecimento | G3/8 |
| N2 Pressão de depuração | 0.2-0.6 MPa |
| Fluxo de depuração de N2 | 4-96 L/min |
| Conexão de depuração de N2 | G1/4 |
| Conexão de entrada | ISO100 |
| Conexão de tomada | KF40 |
| Nível de ruído | ≤ 70 dB (A) |
| Ambiente de funcionamento | 5~40°C; ≤ 80% HRC |
| Peso | 220 kg |
| Dimensões (L*W*H) | 821*420*791 mm |
Processos de aplicação
Processos limpos
Load-lock, transferência, metrologia, litografia
Processos médios
Processo PVD, pré-limpeza PVD, RTA, tira/cinção, gravação de óxido, gravação de silício, fonte de implante, gravação de metal
Processos difíceis
O número de unidades de controlo deve ser igual ou superior a:
Indústrias-alvo
- Semicondutores:Gravura, implantação de íons, CVD e outras aplicações de processos limpos, médios e duros.
- Energia fotovoltaica:Fornos de crescimento de cristais, processos de fabricação de células.
- Bateria de lítio:Processo de secagem a vácuo de células, enchimento de eletrólitos e desgaseamento.
- Display de painel plano e LED:Processos de fabrico que exijam ambientes de vácuo de elevada limpeza.
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