Pompa a vuoto a turbo molecolare ad alta flessibilità lubrificata con grasso FFZ2500/2000
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Pompa a vuoto turbomolecolare lubrificata
,Pompa a turbo molecolare lubrificata
,Pompa a vuoto turbo molecolare FFZ2500/2000
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Metodo di raffreddamentoraffreddamento idrico/aria
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Velocità di pompaggio2000 l/s
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Pressione ultimatrialeLF ≤ 6E-6 Pa
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Ultima pressioneCF ≤ 6E-7 Pa
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Pre-vuoto15 l/s
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Velocità nominale24000
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Luogo di origineCina
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MarcaKACO
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Numero di modelloFFZ2500/2000
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Quantità di ordine minimo1 SET
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Prezzo$2800-$3490
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Imballaggi particolariScatola di legno
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Tempi di consegna7 giorni lavorativi
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Termini di pagamentoT/T
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Capacità di alimentazione500 unità al mese
Pompa a vuoto a turbo molecolare ad alta flessibilità lubrificata con grasso FFZ2500/2000
Pompa a vuoto turbo molecolare lubrificata con grasso DFFZ250/2000
Caratteristiche
1. lubrificato con grasso
2. raffreddato ad aria/raffreddato ad acqua
3. Installazione in qualsiasi angolo
Parametro tecnico
| Modello | FFZ250/2000 | ||
| Flancia di ingresso | - | LF250 | CF250 |
| Flancella di uscita | - | KF40 | |
| Velocità di pompa | L/s | 2000 | |
| Rapporto di compressione N2/H2 | - | 108/ 104 | |
| Pressione massima | Papà! | 6×10-7 | 6×10-6 |
| Velocità di rotazione | rpm | 24000 | |
| Tempo di esecuzione | min | ≤ 6 | |
| Vibrazione | μm | ≤ 0.1 | |
| Velocità della pompa di pre-vuoto | L/s | 2 | |
| Temperatura dell'acqua di raffreddamento | ≤ 20 | ||
| Flusso di acqua di raffreddamento | L/s | 1 | |
| Potenza massima | kW | 750 | |
| Tensione del riscaldatore | V. | AC220 | |
| Direzione dell'installazione | - | Qualsiasi angolo. | |
| Peso | kg | 32/35 | |
Curva di pompaggio
Disegno della pompa
Applicazioni
Applicazioni delle pompe molecolari in varie industrie
Le pompe molecolari sono pompe ad alto vuoto ampiamente utilizzate in industrie che richiedono ambienti ad alto vuoto o ultra-alto vuoto puliti e privi di olio.
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Fabbricazione di semiconduttori e circuiti integrati
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Utilizzato nei processi di fabbricazione di chip come litografia, incisione, impianto ionico e deposizione a film sottile (CVD, PVD)
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Garantisce un funzionamento privo di olio per prevenire la contaminazione dei wafer
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Attrezzature chiave: sistemi di litografia a fascio elettronico, incisioni al plasma, sistemi MBE
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