logo
SUZHOU KACO VACUUM EQUIPMENT CO.,LTD. scorpiosyy@foxmail.com
Grease Lubricated High Turbo Molecular Vacuum Pump FFZ2500/2000 Molecular Turbo Pump

Υψηλής μοριακής αντλίας κενού FFZ2500/2000

  • Επισημαίνω

    Ζάχαρη Λιπασμένη τουρβομοριακή αντλία κενού

    ,

    Λιπαρή λιπαντική μοριακή αντλία

    ,

    Τούρμπο μοριακή αντλία κενού FFZ2500/2000

  • Μέθοδος ψύξης
    Ψύξη με νερό/αέρα
  • Ταχύτητα άντλησης
    2000 L/s
  • Τελευταία πίεση
    LF ≤ 6E-6 Pa
  • Τελευταία πίεση
    CF ≤ 6E-7 Pa
  • Προεξάτμιση
    15 L/s
  • Καθορισμένη ταχύτητα
    24000
  • Τόπος καταγωγής
    Κίνα
  • Μάρκα
    KACO
  • Αριθμό μοντέλου
    FFZ2500/2000
  • Ποσότητα παραγγελίας min
    1 SET
  • Τιμή
    $2800-$3490
  • Συσκευασία λεπτομέρειες
    Ξύλινο Κιβώτιο
  • Χρόνος παράδοσης
    7 εργάσιμες ημέρες
  • Όροι πληρωμής
    Τ/Τ
  • Δυνατότητα προσφοράς
    500 μονάδες ανά μήνα

Υψηλής μοριακής αντλίας κενού FFZ2500/2000

Τουρμπομοριακή αντλία κενού με λίπανση γράσου DFFZ250/2000

 

 

ΧΑΡΑΚΤΗΡΙΣΤΙΚΑ

 

1. Λίπανση με γράσο

2. Αερόψυκτη/Υδρόψυκτη

3. Εγκατάσταση σε οποιαδήποτε γωνία

 


 

ΤΕΧΝΙΚΕΣ ΠΑΡΑΜΕΤΡΟΙ

 

Μοντέλο   FFZ250/2000
Φλάντζα εισόδου - LF250 CF250
Φλάντζα εξόδου - KF40
Ταχύτητα άντλησης L/s 2000
Λόγος συμπίεσης N2/H2 - 108  /  104
Τελική πίεση Pa 6×10-7 6×10-6
Ταχύτητα περιστροφής rpm 24000
Χρόνος εκκίνησης min ≤6
Δόνηση μm ≤0.1
Ταχύτητα αντλίας προκενού L/s 2
Θερμοκρασία νερού ψύξης   ≤20
Ροή νερού ψύξης L/s 1
Μέγιστη ισχύς kW 750
Τάση θερμαντήρα V AC220
Κατεύθυνση εγκατάστασης - Οποιαδήποτε γωνία
Βάρος kg 32/35

 

 

Καμπύλη άντλησης

 

Υψηλής μοριακής αντλίας κενού FFZ2500/2000 0

 

Σχέδιο αντλίας

 

Υψηλής μοριακής αντλίας κενού FFZ2500/2000 1

 

Εφαρμογές

 

Εφαρμογές μοριακών αντλιών σε διάφορες βιομηχανίες

Οι μοριακές αντλίες είναι αντλίες υψηλού κενού που χρησιμοποιούνται ευρέως σε βιομηχανίες που απαιτούν καθαρά, απαλλαγμένα από λάδι περιβάλλοντα υψηλού ή υπερ-υψηλού κενού. Οι κύριοι τομείς εφαρμογής τους περιλαμβάνουν:

 

  1. Κατασκευή ημιαγωγών και ολοκληρωμένων κυκλωμάτων

    • Χρησιμοποιούνται σε διαδικασίες κατασκευής τσιπ όπως λιθογραφία, χάραξη, εμφύτευση ιόντων και εναπόθεση λεπτής μεμβράνης (CVD, PVD)

    • Εξασφαλίζει λειτουργία χωρίς λάδι για την αποφυγή μόλυνσης των πλακιδίων

    • Βασικός εξοπλισμός: Συστήματα λιθογραφίας δέσμης ηλεκτρονίων, χαράκτες πλάσματος, συστήματα MBE