logo
SUZHOU KACO VACUUM EQUIPMENT CO.,LTD. scorpiosyy@foxmail.com
Grease Lubricated High Turbo Molecular Vacuum Pump FFZ2500/2000 Molecular Turbo Pump

Fettgeschmierte Hochturbomolekulare Vakuumpumpe FFZ2500/2000 Molekulare Turbompumpe

  • Hervorheben

    Fettgeschmierte turbomolekulare Vakuumpumpe

    ,

    Fettgeschmierte molekulare Turbopumpe

    ,

    Turbomolekulare Vakuumpumpe FFZ2500/2000

  • Kühlmethode
    Wasserkühlung/Luftkühlung
  • Pumpende Geschwindigkeit
    2000 L/s
  • Der Druck im Ultimater
    LF ≤ 6E-6 Pa
  • Enddruck
    CF ≤ 6E-7 Pa
  • Vorvakuum
    15 L/s
  • Nenndrehzahl
    24000
  • Herkunftsort
    China
  • Markenname
    KACO
  • Modellnummer
    FFZ2500/2000
  • Min Bestellmenge
    1 SATZ
  • Preis
    $2800-$3490
  • Verpackung Informationen
    Holzkiste
  • Lieferzeit
    7 Arbeitstage
  • Zahlungsbedingungen
    T/T
  • Versorgungsmaterial-Fähigkeit
    500 Einheiten pro Monat

Fettgeschmierte Hochturbomolekulare Vakuumpumpe FFZ2500/2000 Molekulare Turbompumpe

Fettgeschmierte turbomolekulare Vakuumpumpe DFFZ250/2000

 

 

EIGENSCHAFTEN

 

1. Fettgeschmiert

2. Luftgekühlt/wassergekühlt

3. Installation in jedem Winkel

 


 

TECHNISCHE PARAMETER

 

Modell   FFZ250/2000
Einlassflansch - LF250 CF250
Auslassflansch - KF40
Saugvermögen L/s 2000
Kompressionsverhältnis N2/H2 - 108  /  104
Enddruck Pa 6×10-7 6×10-6
Drehzahl U/min 24000
Anlaufzeit min ≤6
Vibration μm ≤0.1
Vorvakuumpumpengeschwindigkeit L/s 2
Kühlwassertemperatur   ≤20
Kühlwasserfluss L/s 1
Max. Leistung kW 750
Heizspannung V AC220
Installationsrichtung - Jeder Winkel
Gewicht kg 32/35

 

 

Pumpenkennlinie

 

Fettgeschmierte Hochturbomolekulare Vakuumpumpe FFZ2500/2000 Molekulare Turbompumpe 0

 

Pumpenzeichnung

 

Fettgeschmierte Hochturbomolekulare Vakuumpumpe FFZ2500/2000 Molekulare Turbompumpe 1

 

Anwendungen

 

Anwendungen von Molekularpumpen in verschiedenen Industrien

Molekularpumpen sind Hochvakuumpumpen, die in Industrien weit verbreitet sind, die saubere, ölfreie Hochvakuum- oder Ultrahochvakuumumgebungen erfordern. Ihre Hauptanwendungsbereiche umfassen:

 

  1. Halbleiter- und integrierte Schaltungsherstellung

    • Einsatz in Chip-Herstellungsprozessen wie Lithographie, Ätzen, Ionenimplantation und Dünnschichtabscheidung (CVD, PVD)

    • Gewährleistet ölfreien Betrieb zur Vermeidung von Wafer-Kontamination

    • Schlüsselgeräte: Elektronenstrahl-Lithographiesysteme, Plasmaätzer, MBE-Systeme